真空チャンバーホットプレート　PH222

低真空環境での加熱工程を簡易に・安価に実現！

PH222は、真空チャンバータイプのホットプレートです。最高温度400℃タイプ（加熱条件により、水冷が必要です）。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布は±2.0％、プログラム式温度コ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」

金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材…

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」は、金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価に最適です。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲　室温～200℃ ○プレートサイズ　200×200mm ○圧力範囲　-100KPa（真空）~0.02MPa（N2ガス充填時） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

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真空環境用ホットプレート 「PH-220S-42型」

最高温度 400℃ 対応！均熱性に優れた真空環境高温ホットプレートです…

真空環境用ホットプレート 「PH-220S-42型」は、ローブボックス、真空チャンバーでの加熱工程に最適です！ 低真空（10×10-１Paまで）で、安価なホットプレートとして使用できます。 サイズ、カバー構造、温度までカスタマイズ可能。 貴社の加熱工程への組み込み、装置メーカ様OEM対応いたします。 【特徴】 ○最高温度 400℃ 対応 ○均熱性に優れた真空環境高温ホットプレート ○プ...

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半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」

小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 ウエ...

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真空環境対応　遠赤外ホットプレート 「PA2030-IR型」

セラミックコーティング表面により、遠赤外線による非接触加熱用ホットプレ…

真空環境対応　遠赤外ホットプレート 「PA2030-IR型」は、セラミックコーティング表面により、遠赤外線による非接触加熱用ホットプレートです。 装置取付インターフェースは、御社装置に合わせ製作いたします。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲　50～250℃ ○サイズ　300×300mm ○表面処理　アルミナコーティング処理 ○使用環境　真空 詳しくはお問い合わせ、またはカタログ...

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真空ホットプレートチャンバー 「PH-224型」

加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる ○空冷にて、最高温度400℃対応 詳しくはお問い...

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カスタム真空環境ホットバス 「PH340-3510」

真空環境内で使用可能なカスタム真空環境ホットバスです。

カスタム真空環境ホットバス 「PH340-3510」は、真空環境内で使用可能なカスタムサンドバスです。サイズ、温度などカスタマイズ可能です。 御社の真空チャンバーへ低予算にて増設可能。 導通端子（フィードス...

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加熱工程ウエハホットチャック　PH050

最高温度300℃対応！小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレート。

加熱工程ウエハホットチャック　PH050は小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレートです。ウエハ、ガラス基板など極薄のワークを均一に加熱します。ワークは真空吸着により固定いたしますのでワークに固定によるストレスを与えません。プレートはアルミ合金、黒アルマイト処理、レザーマーキングによるガイド表示、MSAデジタル温度コントローラーにて精密温度制御が可能で...

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ウエハホットチャック 「PH-201C」

トッププレートの交換により、さまざまなワークに対応可能です。

ウエハホットチャック 「PH-201C」は、小型で、ウエハ、ガラス基板など極薄のワークを均一に加熱いたします。 ワークは真空吸着により固定いたしますのでワークに固定によるストレスを与えません。 サイズ、吸着パターン、温度までカスタマイズ可能。 貴社の試験システムへの組み込み、装置メーカ様OEM対応いたします。 ...

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恒温・均熱ステージ　PJ100

精密な温度制御、温度のバラツキが許されないプロセスに！！サイズなどカス…

サイズ、取付インターフェース、メカニカル形状など、カスタマイズ可能です。半導体プロセス、ナノテクプロセスなどに。◎超精密温度制御ステージ（±1℃、±0.5℃）◎真空吸着チャック機能◎高精度ステージ（平坦度）◎温度設定範囲15-40℃。...

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ペルチェ 温度チャンバー 「PG-1506」

窒素ガス、乾燥空気導入チャンバーにより、低温試験時での結露がありません

【仕様】 ○温度制御範囲：-40℃～150℃ ○プレートサイズ：60×60mm ○温度精度：±2.0% ○増設機能：試験用治具、プローブなど ○ステージへの固定方法（真空吸着、ねじ止め）などもカスタム対応 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

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ウエハホットチャック「PH-101TIN」

貴社の試験システムへの組み込み、装置メーカ様OEM対応品！

N」は最高温度300℃対応でウエハ、ガラス基板など極薄のワークを均一に加熱できる小型ウエハホットチャックです。トッププレート構造により、プレートの交換で数種類のワーク対応が可能です。 ワークは真空吸着により固定いたしますのでワークに固定によるストレスを与えません。また、MSAデジタル温度コントローラーにて精密温度制御が可能です。サイズ、吸着パターン、温度までカスタマイズができます。 ホ...

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真空チャンバー ホットプレート　「PH221」

簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能！

真空チャンバー ホットプレート　「PH221」は、チャンバー構造ホットプレート（最高温度200℃）です。ホットプレートに真空チャンバーを組み合わせたタイプで、低真空環境での加熱工程を簡易に実現いたします。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布 ±2.0％。プログラム式温度コントローラー（別売）により、温度プログラム設定が可能です。真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキング...

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半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」

最高温度400℃！小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」は、加熱源にセラミックヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認...

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真空はんだ付けバッチ炉 「PH-224-S型」

プロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。

真空はんだ付けバッチ炉 「PH-224-S型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる ○空冷にて、最高温度400℃対応 詳しくはお問い合...

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加熱工程ウエハホットチャック　PH070

最高温度300℃対応！小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレート。

加熱工程ウエハホットチャック　PH070は小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレートです。ウエハ、ガラス基板など極薄のワークを均一に加熱します。ワークは真空吸着により固定いたしますのでワークに固定によるストレスを与えません。プレートはアルミ合金、黒アルマイト処理、レザーマーキングによるガイド表示、MSAデジタル温度コントローラーにて精密温度制御が可能で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

ウエハホットチャック「PH-101T」

貴社の試験システムへの組み込み、装置メーカ様OEM対応品！

」は最高温度300℃対応でウエハ、ガラス基板など　極薄のワークを均一に加熱できる小型ウエハホットチャックです。トッププレート構造により、プレートの交換で数種類のワーク対応が可能です。 ワークは真空吸着により固定いたしますのでワークに固定によるストレスを与えません。また、MSAデジタル温度コントローラーにて精密温度制御が可能です。サイズ、吸着パターン、温度までカスタマイズができます。 ホ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー