• アレルゲンの迅速なふき取り検査に!『アレルゲンアイ シリーズ』 製品画像

    アレルゲンの迅速なふき取り検査に!『アレルゲンアイ シリーズ』

    PR食品製造ラインのアレルギー物質残留を、ふき取り検査で迅速に確認可能!H…

    「アレルゲンアイ クイック」「アレルゲンアイ ふき取り検査用キット」は、食品製造ラインに残留するアレルゲンを迅速・簡単に確認できます。すべての特定原材料と推奨品目(大豆、ごま、アーモンド)を対象としたキットがあります。 【「アレルゲンアイ クイック」の特長】 ■検査は、ふき取り溶液やすすぎ水(要希釈)に直接つけるだけ ■10分後に食物アレルギー物質の有無を判定 ■少量パック(5回用)も...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社つくば食品評価センター プリマハムグループ

  • 【新製品】 化粧品原料 長寿遺伝子刺激、肌寿命向上植物エキス 製品画像

    【新製品】 化粧品原料 長寿遺伝子刺激、肌寿命向上植物エキス

    PRタイムリス 長寿遺伝子に作用し、肌寿命向上を実現[化粧品開発展東京20…

    美しさと長寿の象徴であり、幅広い健康効果を持つ自然のルビーチョウセンゴミシのエキスです。 スキンロンジェビティメカニズムに働きかけ、活力に満ちた、艶のある滑らかな肌へと導きます。 <有効成分> リグナン: ≥10%/DM 長寿命延長メカニズム シサンドリン:6-8%/DM オートファジー誘導& 皮膚健康寿命の向上 有機酸: クエン酸: 10-15% リンゴ酸: 10-15% 酒石酸 ≥2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社樋口商会

  • 薄膜評価装置『分光エリプソメーター』 製品画像

    薄膜評価装置『分光エリプソメーター』

    【デモ可能】化合物半導体材料の組成比の評価も可能!非接触・非破壊でエピ…

    『分光エリプソメーター』は、非接触・非破壊でエピ膜を含む薄膜の膜厚値、 屈折率、消衰係数を精度良く測定する薄膜評価装置です。 化合物半導体材料の組成比の評価も可能。 主な評価・測定項目は、“薄膜の膜厚値”、“エピ膜厚値”、“屈折率”、 “消衰係数”、“化合物半導体の組成比”、“ドーパント濃度”です...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 非接触CV測定装置 Cn0CV 製品画像

    非接触CV測定装置 Cn0CV

    非接触式の重金属汚染・CV/IV・膜評価装置。 鉄濃度測定の感度はD…

    世界に400台以上の実績を持つ非接触式の重金属汚染・CV/IV・膜評価装置です。 鉄濃度測定の感度はDSPVを採用することでE8を実現し、近年のCMOSイメージセンサーの歩留まり向上に寄与しております。 化合物半導体のCV測定が可能です。非接触で面内の濃度分布、プ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 水銀プローブCV/IV測定装置『MCVシリーズ』 製品画像

    水銀プローブCV/IV測定装置『MCVシリーズ』

    水銀プローブにより電極の形成が不要!R&Dにおける開発時間の短縮、Lo…

    『MCV-530/530L/2200/2500』は、半導体シリコンウェハーの電気特性や MOSデバイスの酸化膜等の特性評価を可能にする装置です。 従来ではウェハーにゲート電極としてPoly-SiやAl等を蒸着し、MOS構造・ ショットキー構造形成後にCV/IV特性評価を行っておりました。 当製品は、装置自...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 高感度DLTSシステム DLS-1000 製品画像

    高感度DLTSシステム DLS-1000

    超高感度DLTSシステム/ バルク内欠陥・界面準位測定装置

    主な測定・評価項目 主な測定・評価項目 ・測定Max感度 : C=2x10-5pF for S/N=1 (温度・周波数スキャンに可変時) ・トラップ濃度:Nt<10-5INd-Na) ・I-V/C-Vプ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 拡がり抵抗測定装置『SRP-170/2100』 製品画像

    拡がり抵抗測定装置『SRP-170/2100』

    PN接合の深さおよびキャリヤ濃度分布を測定!オプションにより表面抵抗測…

    【主な測定・評価項目】 ■比抵抗プロファイル ■Epi層厚み測定 ■PN接合深さ測定 ■キャリア濃度分布 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 結晶欠陥検査装置『EnVision』 製品画像

    結晶欠陥検査装置『EnVision』

    非破壊/非接触!nmスケールのウェハー内部の拡張欠陥の検出とモニタリン…

    『En-Vison』は、転位欠陥、酸素析出物、積層欠陥などのウェハー内部の 結晶欠陥を非接触・非破壊で測定・評価ができる結晶欠陥検査装置です。 欠陥サイズ(15nm~サブミクロン)と密度(E6~E10/cm3)の両方で ハイダイナミックレンジを提供。 ウェハー深さ方向の検出感度を大幅に向上させ、...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 高効率太陽電池開発用測定装置 PV-2000 製品画像

    高効率太陽電池開発用測定装置 PV-2000

    高効率太陽電池開発用測定装置

    PV-2000は、Semilab社とSDIの技術を結合した太陽電池開発用の総合測定装置です。 パシベーション層評価等の高効率太陽電池を開発するための様々なヘッドを搭載可能です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • FastGateインライン向けCV・IV測定装置ECV-2500 製品画像

    FastGateインライン向けCV・IV測定装置ECV-2500

    FastGate インライン向けCV・IV測定装置

    イオン注入、低ドース・イオン注入のドース量モニタリング、極薄酸化膜(<20Å)の電気的膜厚測定 SiON 膜,High k膜の誘電率測定、Epi の 抵抗率測定などが可能です。 主な測定・評価項目 ・電気的膜厚(CET/EOT) ・フラットバンド電圧(VFB) ・界面準位等(Dit)の測定 ・リークIV測定 ・USJ(40nm以下)の低ドーズイオン注入量モニタリング ・Epi...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • Junction Photo Voltage(JPV) 製品画像

    Junction Photo Voltage(JPV)

    JPV法により、非接触で、PNジャンクションのジャンクション・リーク、…

    JPV法(ジャンクション・フォト・ボルテッジ法)を用いているため、高速で再現性の良いマッピング測定が可能です。 【特徴】 - 非接触、非破壊測定 - プローブの調整は不要 - 測定のための特別な試料準備は不必要 - 表面に酸化膜やコーティングが存在しても測定可能 - 空間分解能の高い分布測定(マッピング)が高速で可能 - 再現性の高い測定が可能 - セミラボ社のベンチトッププラ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

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