手袋カタログvol.10

PR"手指を守る"基本は手袋です。労働災害の中で最も多…

保護手袋を装着することで防げる事故は確実にあります。ミドリ安全は、作業内容や用途に合わせて適切な手袋をご用意。汚れの防止、防寒はもちろん、油・溶剤・薬品に対する手の保護や切創・すべり・火傷防止等に対応した各種の保護手袋など、作業動作と作業環境に合った手袋を選んで、事故を―る防ぎましょう。 【作業動作】持つ・掴む・摘む・握る・触る 　→手の動きによってグリップ性、フィット性など求められるものが変...

メーカー・取り扱い企業： ミドリ安全株式会社

バイアル連続巻締め機『VM-NS 008S』

PRワンプッシュで簡単！自動供給・取り出しモデルの連続巻締め機！

『VM-NS 008S』は、自動供給・取り出しモデルのバイアル連続巻締め機です。 操作方法は、ゴム栓・アルミキャップをセットした瓶を供給し スタートボタンを押すだけ。寸動スイッチ付で調整に便利です。 【特長】 ■自動供給・取り出しモデル ■ゴム栓、アルミキャップをセットしたバイアルを並べて運転スイッチを押すだけ ■巻締ローラー位置は微調整可能 ■過負荷防止構造 ■供給部と取り出し部は左右選択可...

メーカー・取り扱い企業： 内外硝子工業株式会社

リニアエンコーダ内蔵　高分解能位置決め装置

【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバッ…

○1nm分解能位置決め装置 　分解能：1nm（内蔵エンコーダの読取値に対して） 　最大移動速度：5mm/s（FC-911コントローラ使用時） 　可動範囲：20mm～50mm 　 ○10nm分解能位置決め装置 　分解能：10nm（内蔵エンコーダの読取値に対して） 　最大移動速度：10mm/s（一部ステージを除く） 　可動範囲：20～200mm/s...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応5nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

Z軸用サブミクロンステージ FS-1005Z/1010Z

【精密位置決め装置】50nm又は100nmの高分解能・高い位置決め再現…

光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

シグマテック株式会社　会社案内

正確性・安全性を考慮し、常に安定したサービスを提供いたします

【取扱製品（抜粋）】 ■フィードバックステージシステム ・1nmフィードバックステージシステム ・5nmフィードバックステージシステム ・10nmフィードバックステージシステム ・サブミクロンフィールドバックステージシステム ■真空対応フィードバックステージシステム ・真空対応1nmフィードバックステージシステム ・真空対応5nm...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により10nm…

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージ FS-1040PX/XY

【ストローク40mm】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置保持…

ダと自社独自のフィードバック制御回路により、分解能、位置決め再現性、位置保持性が優れております。 フィードバックステージコントローラ FC-511と組み合わせることでエンコーダの読み取り値の『10nm』分解能で『40mm』ストロークで動作させることができます。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージ FS-1050PX/XY

【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後…

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　サブミクロン分解能で位置決め　可動…

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能（0.1μm or 0.05μm）の再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応1nmフィードバックステージシステム

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm…

光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社