【新製品】 化粧品原料　長寿遺伝子刺激、肌寿命向上植物エキス

PRタイムリス　長寿遺伝子に作用し、肌寿命向上を実現[化粧品開発展東京20…

美しさと長寿の象徴であり、幅広い健康効果を持つ自然のルビーチョウセンゴミシのエキスです。 スキンロンジェビティメカニズムに働きかけ、活力に満ちた、艶のある滑らかな肌へと導きます。 ＜有効成分＞ リグナン: ≥10%/DM 長寿命延長メカニズム シサンドリン:6-8%/DM オートファジー誘導& 皮膚健康寿命の向上 有機酸: クエン酸: 10-15% リンゴ酸: 10-15% 酒石酸 ≥2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社樋口商会

細胞培養液成分を最大16項目同時測定する分析装置！分析解説資料有

PR【細胞培養液分析解説資料進呈】最大16項目を4分30秒で同時測定・分析…

『BioProfile FLEX2』は、細胞培養液成分を最大で16項目同時分析可能な細胞培養環境自動分析装置です。 わずか4分半で代謝・増殖・分化などの培養状況を数値化でき「細胞製造プロセスの継続判断」「大量生産を見据えた培養環境づくり」「GMP対応に向けた品質管理・基準の文書化」などの効率化に貢献します。 複数の形状のサンプル容器を備え、必要な検体量は135～265μLと少量。化学物質、ガス測定...

メーカー・取り扱い企業： ノバ・バイオメディカル株式会社

リニアエンコーダ内蔵　高分解能位置決め装置

【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバッ…

○1nm分解能位置決め装置 　分解能：1nm（内蔵エンコーダの読取値に対して） 　最大移動速度：5mm/s（FC-911コントローラ使用時） 　可動範囲：20mm～50mm 　 ○10nm分解能位置決め装置 　分解能：10nm（内蔵エンコーダの読取値に対して） 　最大移動速度：10mm/s（一部ステージを除く） 　可動範囲：20～200mm/s...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応5nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

Z軸用サブミクロンステージ FS-1005Z/1010Z

【精密位置決め装置】50nm又は100nmの高分解能・高い位置決め再現…

光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

シグマテック株式会社　会社案内

正確性・安全性を考慮し、常に安定したサービスを提供いたします

【取扱製品（抜粋）】 ■フィードバックステージシステム ・1nmフィードバックステージシステム ・5nmフィードバックステージシステム ・10nmフィードバックステージシステム ・サブミクロンフィールドバックステージシステム ■真空対応フィードバックステージシステム ・真空対応1nmフィードバックステージシステム ・真空対応5nm...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により10nm…

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージ FS-1040PX/XY

【ストローク40mm】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置保持…

ダと自社独自のフィードバック制御回路により、分解能、位置決め再現性、位置保持性が優れております。 フィードバックステージコントローラ FC-511と組み合わせることでエンコーダの読み取り値の『10nm』分解能で『40mm』ストロークで動作させることができます。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージ FS-1050PX/XY

【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後…

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　サブミクロン分解能で位置決め　可動…

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能（0.1μm or 0.05μm）の再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応1nmフィードバックステージシステム

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm…

光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社