表面改質技術『COT処理』※検証動画公開

PR医薬品・食品の付着防止と滑り性改善に。皮膜剥落による異物混入リスクがゼ…

『COT処理』は、独自の表面改質加工により、母材の表面に滑らかで微細な凹凸や、 マルチスケール構造を形成し、滑り性や離型性、洗浄性を高める技術です。 基材表面を改質する技術のため、皮膜剥落による異物混入リスクがなく、 用途に合わせて表面構造を高精度に制御でき、複雑形状品にも施工可能です。 金属、樹脂、セラミック、ガラスなど様々な素材に施工でき、 熱による変形・変色が懸念される薄板...

メーカー・取り扱い企業： 千代田交易株式会社

長ストロークに対応！精密位置決め装置

長距離（150mm）を細かく位置決め可能！『精密位置決め装置（分解能：…

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージ。 長ストローク（150mm）を細かく（10nm単位※）位置決め可能。 ストロークが長いため、光学実験での光学遅延を作る...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

Z軸用サブミクロンステージ FS-1005Z/1010Z

【精密位置決め装置】50nm又は100nmの高分解能・高い位置決め再現…

光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージ FS-1050PX/XY

【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後…

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

スリム型100nm分解能ステージ（40mm）

エンコーダ内蔵のフルクローズ制御可能なステージ

自社開発した光学式リニアスケールエンコーダを内蔵しているため コントローラで制御することで100nnまたは50nm分解能で 動作します。 進行方向に対してスリムなモデルです。 スリムなメリット ・省スペースで長いス...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

5nmフィードバックステージ FS-1050SPX/XY

【精密位置決め装置】5nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の…

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

5nmフィードバックステージ FS-1040SPX/XY

【精密位置決め装置】リニアエンコーダを内蔵し、5nm分解能で動作する位…

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージコントローラ　FC-514

10nm分解能で位置決め。スローダウン機能搭載

ローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 FC-514はスローダウンセンサ信号とORGセンサ信号に対応しています。 10nmフィードバックステージではロングスケールタイプのステージにスローダウンセンサが搭載されており、高速にロングストロークを高分解能に位置決めすることができるため、測定データの範囲が広くすることができます。 外部機器からコマンドによる通...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

Z軸用10nmステージ FS-1005PZ/1010PZ

【昇降ステージ】リニアエンコーダ内蔵により10nmの高分解能・高い位置…

解能(*1)でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

5nmフィードバックステージ FS-1020SPX/XY

【エンコーダ内蔵】分解能・位置決め再現性・位置保持性が高い5nm分解能…

リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 20mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社