【乾燥テスト対応！】オーダーメイドの乾燥機

PRしらす加工場の６０%に納品実績あり！オーダーメイド乾燥機

当社は、しらす工場の約6割に納品実績があり、多種多様な乾燥機を製造しております。 製茶加工における熱風乾燥の機器・装置をはじめとして、水産加工・食品加工のプラントなど、幅広い業種で熱風乾燥機の技術を生かした製品を創り出しています。 例えば、食品加工の分野は、お客様の製造する食品ジャンルは様々。インスタント食品の野菜や薬味、穀物などの乾燥機や、練り製品の加熱冷却装置など、いずれも製品はオーダ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社河村バーナー製作所

マイクロリアクターULREA（アルリア）シリーズ

PR各種ナノ粒子の超精密合成、大量生産ができます。

ULREA（アルリア）シリーズは2枚のディスク間にできるマイクロメートルオーダーの間隙を反応場、晶析場として応用した湿式法・連続式の反応装置です。 金属、合金、酸化物、複合酸化物、有機顔料など各種ナノ粒子の超精密合成・表面処理と大量生産が容易に実現できます。 その他、マイクロスフェア、ナノスフェアも容易に創製可能です。 【ULREA（アルリア）の特長】 1. 確実なスケールアッ...

メーカー・取り扱い企業： エム・テクニック株式会社

ナノメートル位置決め装置 [ポジショニングEXPO出展]

検査効率向上に！リニアエンコーダ内蔵で優れた再現性があるナノメートル分…

独自開発したリニアエンコーダを内蔵したステージとコントローラで構成される装置です。 ステージのエンコーダの読み取り値は逓倍処理後に1nm~100nmの分解能があります。 可動域は20mm~300mm（分解能によりラインナップが異なります。） コントローラはフィードバッ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

サブミクロンフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

サブミクロン分解能で位置決め！エンコーダ内蔵で再現性に優れ、20～40…

■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーによりサブミクロン分解能でステージを動作させ、 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、 高分解能で再現性に優れています。 ステージコントローラにより、100nm（0.1μm）か50nm（0.05μm）分解能で動作します。 ■長ストローク 最大400mmの可動ができます。 これによ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応5nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

サブミクロンフィードバックステージコントローラ　FC-111

100nm分解能で位置決め！リニアエンコーダによる位置フィードバックで…

サブミクロンフィードバックステージと組み合わせて100nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック（フルクローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 そのため、再現...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

1nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm

光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

10nm分解能で位置決め！再現性に優れ、20～200mmストロークのス…

■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーにより10nm分解能でステージを動作させ、ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、高分解能で再現性に優れています。 ■長ストローク 最大200mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。 ■制御 コントローラには通信インターフェースがいく...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

5nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

5nm分解能で位置決め！再現性に優れ、可動距離がミリオーダー

■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーにより5nm分解能でステージを動作させ、 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、 高分解能で再現性に優れています。 ■長ストローク ボールねじ駆動のため最大50mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。 ■制御 コントローラには通...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　サブミクロン分解能で位置決め　可動…

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能（0.1μm or 0.05μm）の再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応1nmフィードバックステージシステム

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm…

光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により10nm…

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

サブミクロンフィードバックステージコントローラ　FC-414

50nm分解能で位置決め！ロングステージ向けコントローラ

サブミクロンフィードバックステージと組み合わせて50nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック（フルクローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 FC-41...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージコントローラ　FC-514

10nm分解能で位置決め。スローダウン機能搭載

10nmフィードバックステージと組み合わせて10nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック（フルクローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 FC-51...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社