• チョコとセンター材を同時充填【小型ワンショットサンドマシン】 製品画像

    チョコとセンター材を同時充填【小型ワンショットサンドマシン】

    PRチョコレートと色々なセンター材を同時に充填するサンドマシンのご紹介!

    『小型ワンショットサンドマシン』は、クッキー・ビスケットなどに、ソースやクリームなどさまざまなセンター材とそれを包むチョコレートを同時に充填するサンドマシンです。 長方形クッキーへも長しぼりで対応可能。クッキー供給スタッカー装置・表裏反転装置付です。 また、モールドへのワンショット充填にも対応できます。 【特長】 ■クッキー供給スタッカー装置・表裏反転装置付 ■長方形クッキーへも...

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    メーカー・取り扱い企業: 谷沢菓機工業株式会社

  • 【生活習慣病・認知症研究にお役立ち!】回転かご式運動量測定装置 製品画像

    【生活習慣病・認知症研究にお役立ち!】回転かご式運動量測定装置

    PR【面倒な配線問題もらくらく解決】設置状況によって複数台の機器に接続でき…

    行動薬理試験において最も重要な指標の一つである【自発運動量】の 測定装置です。 認知症・生活習慣病に限らず様々な研究で利用可能なマウス・ラット用 回転かご式(ランニングホイール式)行動解析用実験装置です。 睡眠や活動リズムの研究にも広く使われています。 ================= 【特長】 ■お客様の設置状況に応じて、好適な方法を提案します。 また、お手持ちのケージにもカスタム対応...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社メルクエスト

  • 積層薄膜作製装置 製品画像

    積層薄膜作製装置

    多層塗りによる厚膜の作製!スピンコータに液だれ防止が工夫されている装置

    『積層薄膜作製装置』は、化学溶液法による積層薄膜作製プロセスである、 スピンコーティング、乾燥、焼成、冷却の各工程の繰り返しをロボットを 用いて行い、多層塗りによる厚膜の作製を自動で行う装置です。 コンピュ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 小型スパッタ装置 製品画像

    小型スパッタ装置

    対応基板は最大φ1インチまで処理が可能!デュアルガスノズルを備えた装置

    『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 高周波レーザーCVD装置 製品画像

    高周波レーザーCVD装置

    簡単に試料セットする事が可能!外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

    当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ(自動回転機構付き)があり、 外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。 サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。 簡単に試料セットする事ができます。 オプションでチャンバー上部にガス供給系(最大5系統)を設置する事も可能です。 【特長...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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    2次元抵抗加熱蒸着装置

    蒸着源はボートタイプ!基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

    『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用し...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • プラズマCVD装置 製品画像

    プラズマCVD装置

    漏洩マイクロ波検出用も付属!試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

    『プラズマCVD装置』は、実験用に極端に簡素化して製作されたCVD装置です。 マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで 製作し価格を下げております。 また、プラズマ発生域と試料...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • レーザーCVD装置 製品画像

    レーザーCVD装置

    サンプルMAXサイズ10mm口!耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

    『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 酸化シリコン成膜CVD装置 製品画像

    酸化シリコン成膜CVD装置

    3インチウェハ対応!コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

    当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。 コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。 内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。 また、3インチウェハ対応となっております。 【特長】 ■酸化シ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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