• 紫外線殺菌装置 紫外線ランプ搭載水殺菌装置 展示会出展7/30~ 製品画像

    紫外線殺菌装置 紫外線ランプ搭載水殺菌装置 展示会出展7/30~

    PR第3回 国際発酵・醸造食品産業展にぜひご来場ください 紫外線(UV)殺…

    東芝ライテックでは食品・飲料の製造をはじめ、様々な用途の水処理で活躍する、 紫外線ランプを搭載した『水殺菌装置』をラインアップしています。 装置の種類が豊富で、様々なシーンに適用可能です。 装置は、幅広いテストを経て、厳格な検証・認定試験にも合格した 信頼性や品質の高いものばかりを取り揃えています。 【UVを使用した水処理のメリット】 ■熱や化学薬品を使わずに殺菌が可能 ■設...

    • MONORAYシリーズ.png
    • 非腐食性PP/PEHDシリーズ.png
    • SSV飲料水シリーズ.png
    • ULTRABARRIERシリーズ.png
    • LUVTシリーズ.png
    • ULTRALOW ULUシリーズ.png
    • TOC VUVシリーズ.png
    • ULTRATRONシリーズ.png
    • 開水路型(SS)シリーズ.png

    メーカー・取り扱い企業: 東芝ライテック株式会社 次世代ソリューション事業本部 UV水殺菌システム部

  • アブソデックス(ABSODEX) AX1R/2R/4R・AXD 製品画像

    アブソデックス(ABSODEX) AX1R/2R/4R・AXD

    PR軸受けやブラケット等を別途設置する必要なく負荷をダイレクトに取り付ける…

    簡単にインデックステーブルの装置を作ることができるので、 設計工数と組立工数を削減し、生産設備のシンプル化と生産効率UPに貢献します。 【生産設備のシンプル化】 複数の部品を組み合わせて構成したインデックステーブルの機構をアブソデックス1つで置換え可能。 部品点数・設計工数の削減や、省スペース・センサレス・メンテナンスフリーなど、生産設備のシンプル化に貢献。 【フレキシブル動作】...

    メーカー・取り扱い企業: CKD株式会社

  • 積層薄膜作製装置 製品画像

    積層薄膜作製装置

    多層塗りによる厚膜の作製!スピンコータに液だれ防止が工夫されている装置

    『積層薄膜作製装置』は、化学溶液法による積層薄膜作製プロセスである、 スピンコーティング、乾燥、焼成、冷却の各工程の繰り返しをロボットを 用いて行い、多層塗りによる厚膜の作製を自動で行う装置です。 コンピュ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 小型スパッタ装置 製品画像

    小型スパッタ装置

    対応基板は最大φ1インチまで処理が可能!デュアルガスノズルを備えた装置

    『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 高周波レーザーCVD装置 製品画像

    高周波レーザーCVD装置

    簡単に試料セットする事が可能!外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

    当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ(自動回転機構付き)があり、 外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。 サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。 簡単に試料セットする事ができます。 オプションでチャンバー上部にガス供給系(最大5系統)を設置する事も可能です。 【特長...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 2次元抵抗加熱蒸着装置 製品画像

    2次元抵抗加熱蒸着装置

    蒸着源はボートタイプ!基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

    『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用し...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • プラズマCVD装置 製品画像

    プラズマCVD装置

    漏洩マイクロ波検出用も付属!試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

    『プラズマCVD装置』は、実験用に極端に簡素化して製作されたCVD装置です。 マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで 製作し価格を下げております。 また、プラズマ発生域と試料...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • レーザーCVD装置 製品画像

    レーザーCVD装置

    サンプルMAXサイズ10mm口!耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

    『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 酸化シリコン成膜CVD装置 製品画像

    酸化シリコン成膜CVD装置

    3インチウェハ対応!コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

    当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。 コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。 内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。 また、3インチウェハ対応となっております。 【特長】 ■酸化シ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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