LNPの製剤開発からGMP製造までをサポートする多彩なツール

PR製剤条件のスクリーニングからスケールアップ、GMP製造までをシームレス…

弊社のLNPツールは、合成から特性解析までにかかる様々な手間と時間を軽減し、製剤化を加速化します。 【LNP合成】 ・Sunシリーズ：処方・製造条件スクリーニングからスケールアップ、GMP対応製造まで、同じポンプとマイクロ流路チップを使用してシームレスに実行・移行可能です。 　・Sunscreen：スクリーニングのために開発された装置。96種類の条件検討を完全自動で実行。 　・Sunshine：...

メーカー・取り扱い企業： Unchained Labs株式会社

【Labstep導入事例】がん検出のための研究開発

PRクラウドベースの研究プラットフォームを用いて研究開発を加速する事例！

当社で取り扱っているクラウド型電子実験ノート（ELN）「Labstep」を、がん検出のための研究開発へ 導入した事例をご紹介いたします。 臨床サンプルの使用に大きく依存しており、一貫したカタログ作成の工程が ないことや、研究チームが何千ものサンプルを管理、更新、追跡する必要が あることが課題でした。 導入後は、システムのセキュリティとトレーサビリティを大幅に向上させ、 抽出して分析リストの作成...

メーカー・取り扱い企業： STARLIMS Corporation 代理店 インフォコム株式会社

高出力レーザー装置の冷却『ThermoFlexシリーズ 』

循環ポンプと電源仕様の選択、さらに各種オプションの装備により、多様なレ…

注水口と見易いレベルインジケーター ○空冷式/水冷式モデルが選択可能(TF 900、15000、20000 は空冷のみ) ○通信インターフェースをはじめ多様なオプションを用意 ※詳細は、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

冷却水循環装置『ThermoChillシリーズ 』

シンプルデザインで使いやすさに徹したチラー

ermoChill 2 のみマグドライブポンプが搭載可能 ○RS232 シリアルコミュニケーションを用意 (オプション) ○ロッキングキャスターを標準装備 ○CE 対応 ※詳細は、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

スマートチラー『ACCELシリーズ』

省エネルギー設計の新型温度制御システムの採用により、省電力と低騒音を実…

【簡単給水操作】 フロントローディング方式の給排水ポートから専用ファンネルを用いて簡単に給水可能 【安全機構】 低水位安全機能（Low Level）が標準装備 ※詳細は、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

冷却水循環装置　熱交換式チラー『SYSTEMシリーズ』

１次冷却水量は最小限にコントロールされるため、ランニングコストが抑えら…

で、冷却ラインにおける様々な汚染物質による問題点を克服します。 【ラインナップ】 ○SYSTEM-1 ○SYSTEM-2 ○SYSTEM-3 ○SYSTEM-4 ※詳細は、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

低振動・低騒音ペルチェチラーThermoRack800

レーザーの温度制御に最適！

0～900W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：0.8L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W510×H270(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

低温バスサーキュレーター VersaCool

コンパクトながら十分なワークスペースを確保

・インバーター圧縮機、ステッパーバルブ、スピード調節可能なDCファン 採用して省エネルギー運転を実現。 ・操作性に優れた5.7インチカラータッチスクリーン装備。 ※詳しくは、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

小型レーザー装置に最適！ペルチェチラー　UCシリーズ

超小型！低振動・低騒音・高い温度安定性。小型レーザー装置の温度制御に最…

●詳しい製品スペックはカタログダウンロードよりご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

半導体製造工程のプラズマエッチングに好適！消費電力最大93％削減！騒音…

℃ 　　　　　　　　　　　　　　 <Low Flow>3400W@20℃ 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー　NIKOLA3K/5K

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

冷却水循環装置『ThermoFlexシリーズ 』

循環ポンプと電源仕様の選択、さらに各種オプションの装備により、多種多様…

口と見易いレベルインジケーター ○空冷式/水冷式モデルが選択可能(TF 900、15000、20000 は空冷のみ) ○通信インターフェースをはじめ多様なオプションを用意 ※詳細は、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー『ThermoRack1201』　

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

低振動・低騒音ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

力：420W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：1.0L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W530×H180(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか?『ThermoRack1201』

フロンガス不使用のペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエッチングに…

：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W483×D610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1801』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

W＠20℃ 加熱能力：3000～3400W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

レーザー装置に最適！ペルチェチラー『ThermoRack800』

レーザーの温度制御に最適！

＠20℃(周囲温度20℃) タンク：0.8L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W510×H270(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

レーザー装置に最適！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！ 消…

力：420W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：1.0L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W530×H180(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack800』

レーザーの温度制御に最適！

0～900W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：0.8L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W510×H270(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

力：420W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：1.0L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W530×H180(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか？ 『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社