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分析ワークフローを自動化・リモート化!新製品のアジレントHPLC
PR【自動化・DXを加速】インテリジェンス機能を持ったAgilent In…
新製品 Agilent Infinity III LCは、 分析ワークフローを自動化・リモート化し、 お客様のラボをスマートにする液体クロマトグラフです。 定型業務、付帯業務を効率化し、R&D、クリエイティブな仕事に 注力でき、ヒューマンエラーとストレスを減らします。 【特長】 ■自動化・リモート化 移動相の取り扱いからサンプル管理まで、日常的な作業を効率化。 居室や自宅か...
メーカー・取り扱い企業: アジレント・テクノロジー株式会社
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PR強いうま味を付与可能!後味の異味が少なく、真昆布本来の上品なうま味を再…
『NC真昆布L-1』は、だし感の付与、中~後味のうま味強化、素材訴求に 活用できる昆布エキスです。 素材の風味を引き立て、自然なだし感を付与可能。 全体的な味が底上げされ、まとまりのある味に仕上げます。 また、最高級品といわれる真昆布のみを使用しており、 高級感のあるメニュー開発にご活用いただけます。 【特長】 ■厳選した北海道道南産の真昆布原料を使用 ■特殊抽出製法 ■調味料(アミノ酸等)...
メーカー・取り扱い企業: 焼津水産化学工業株式会社 静岡本部
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ライフタイム制御サンプルのキャリア濃度分析事例紹介
パワー半導体デバイスでは、ライフタイム制御のために、Si基板内に結晶欠陥を形成することがあります。ライフタイム制御領域の作成に用いられる元素の一つである水素イオンの熱処理条件の違いによるキャリア濃度分布を評価した事例を示します。...詳しいデータはカタログをご覧ください...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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目的箇所のみサンプリングし、ウェハを割らずにサンプル作製します
ウェハ・チップを割らずに小片を抜き出して薄片化し、高分解能TEM観察・分析を行います。 さらに分析したい箇所を残してカットしてサンプルを作製することで、目的箇所をご要望のあらゆる方向からTEM観察・分析し、データをご提供します。高度なTEMサンプル作製技術を通じて、様々な観察・分析・評価ニーズにお応えします。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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ハロゲン(F、Cl、Br)、硫黄の分析が可能です
燃焼-イオンクロマトグラフ(IC)法では、プラスチックや樹脂等の固体材料や、有機溶媒等の液体材料に含有するハロゲン(F、Cl、Br)や硫黄の含有量を調査することが可能です。 図1に示す通り、サンプルを燃焼炉で燃焼分解させることにより発生したガスを吸収液に捕集します。この吸収液をイオンクロマトグラフ法で測定することで、水に溶けない固体サンプル中のハロゲンや硫黄含有量を測定することが出来ます。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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AI技術でCT画像のメタルアーチファクトを低減し画像解析精度を向上!
X線CT測定ではサンプルの三次元構造を非破壊で観察することが可能です。 しかし、X線ビームを使用する性質上、金属を多く含むサンプルの測定においてはメタルアーチファクトと呼ばれる暗い線状の虚像が発生することがあり、 内...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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加熱劣化後のサンプルをLC/MS/MS,TOF-SIMS,TEM+ED…
課題があります。これらの課題を解決するためには、電池の劣化機構の解明が重要です。今回は、温度による劣化機構についての評価のために、加熱劣化試験を行いました。加熱劣化試験後、大幅な容量低下が見られたサンプルについて、電解液をLC/MS/MS、負極表面をTOF-SIMS、負極断面をFIB-TEM+EDXで評価しました。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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【分析事例】GC/MSを用いた発生ガス分析及び高分子材料の同定
熱分解GC/MSの原理とアプリケーションについて
熱分解GC/MSは、試料導入部に熱分解装置を設置したガスクロマトグラフ質量分析計です。 複雑な前処理が必要であった高分子材料についても、熱分解装置でサンプルを加熱分解することにより前処理無しでGCに導入して分析を行うことができます。 また、熱分解装置の温度条件とサンプリング条件を変えること(ダブルショット法)で、同一サンプルから添加剤と高分子材料の...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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様々なAl組成のAlGaN標準試料をラインアップ
SIMS分析において、より確かな濃度定量値を算出するには測定サンプルと組成の近い標準サンプルを用いることが不可欠です。 紫外LEDやUVセンサに用いられるAlGaNについて、Al含有量に応じたAlGaN標準試料を幅広く取り揃えたことで、より高精度にAlGaN中不...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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固体試料にイオンビームを照射し、ラザフォード散乱によって後方に散乱され…
++)を照射し、ラザフォード散乱によって後方に散乱されてくるイオンのエネルギーおよび強度を測定する手法です。 散乱されたHeイオンの運動エネルギーを測定し、衝突した原子の質量数を調べることで分析サンプルの成分や層構造を評価することができます。 また、固体試料にHeイオンを入射して前方に散乱されたHイオンを測定することで、サンプル中の水素濃度を評価することも可能です。この測定手法が水素前方散...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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MFMは、磁性膜でコートされたプローブを用いて、サンプル表面近傍に生じ…
・サンプルの磁気特性の情報を定性的に取得可能 ・漏洩磁場による引力・斥力をイメージング可能 ・漏洩磁場の勾配の大きさに比例した磁気力の信号を得られるが、定量評価は不可 ・AFM像の取得も同時に取得可能...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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雰囲気制御下でのサンプリングで材料の正確な評価が可能です
り、次世代デバイスの一つとして期待されています。特性向上、長寿命化、信頼性向上等には材料の正確な解析・評価が重要ですが、非常に活性な材料が使用されているため取り扱いには注意が必要です。大気暴露したサンプルと高純度アルゴン雰囲気下で取り扱ったサンプルの比較から、大気暴露で見られる酸化(分子イオン+O,+OH等)が高純度アルゴン雰囲気中で取り扱うことで抑えられていることが確認できます。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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XPS:X線光電子分光法 AES:オージェ電子分光法
XPSとAESは表面敏感な分析手法でありサンプル表面の評価に広く用いられますが、イオンエッチングを併用することで深さ方向の分析が可能となります。 深さ方向分析を行うにあたり、測定したい領域やサンプルの材質に応じてXPSとAESを適切に使い分け...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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マスアレイ法により、複数のSNP(一塩基多型)を同時に解析できます
本手法は、MALDI-TOF-MSの質量分析を利用した遺伝子解析法であり、一度の測定で複数のSNP箇所の解析が可能です。最大40か所のSNPを、190サンプル同時に測定できます。 分析全体の流れとしては下記フローに準じて実施します。標的のSNP領域の質量ピークが重ならずに増幅するように設計したプライマーと、各SNP箇所の一塩基のみ伸長するように設計し...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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サンプル表面の形状変化をin situで評価
高分子には、温度や湿度・溶媒等の環境によって形状が変化する素材があり、評価する際の環境条件を変化させることで物性の知見を深めることができます。 今回は生分解性プラスチックで知られているポリカプロラクトン(PCL)を用いて加熱・冷却実験を行いました。ポリカプロラクトンは融点が約60℃であり、加熱により結晶状態からアモルファス状態へと変化する様子を、また冷却により再結晶化する様子を連続測定により動画...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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微小領域の分布評価が可能です
素分析と有機物・無機物の分子情報の解析が同時にできることや、イメージ分析が可能なことから、出来ばえ評価に有効な手段です。 本資料では、Si基材に設けられた0.5μmφ程度のビアに、Cuを充填したサンプルを分析した事例を示します。正イオン分析結果より、CuおよびSiの分布が確認できました。 測定法:TOF-SIMS 製品分野:LSI・メモリ・電子部品 分析目的:組成分布評価・故障解析・不良...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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微小領域のXRD測定が可能
照射X線をΦ400μmに絞ってXRD測定を行うことで、面全体ではなく所定の領域を狙って結晶情報を取得した事例をご紹介します。 プリント基板サンプルのXRD測定の結果、測定箇所(1)~(3)全てでCuとBaSO4が検出され、電極である測定箇所(1)ではAu由来のピークが検出されました。XRFによる測定結果とよく一致しています。 このように組...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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千歳営業所を拠点とし、北海道エリアのお客様へ更なるサービス向上を目指し…
携で納得の品質・納期を実現します。 ご期待ください! 開所日:2024年4月11日(木) 住所:北海道千歳市柏台南1-3-1 千歳アルカディア・プラザ 160 号室 ※サンプルのご送付は、東京都世田谷区の本部宛てにお願いします。 本部住所:東京都世田谷区喜多見1-18-6 電話番号:090-4001-1578(担当:柳町)...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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雰囲気制御下でのGCIBを用いた有機EL層構造および劣化層の成分評価
大気暴露することで劣化が生じる有機材料について、GCIB(Arクラスター)を用いて劣化成分を深さ方向に分析した事例を紹介します。実験には有機EL原料のルブレンを用いました。大気暴露したサンプルをTOF-SIMSで測定をした結果、ルブレンペルオキシドと推定される質量(m/z 564)や、低分子のベンゼン系の質量(m/z 77,105)が検出されました。これらの劣化に起因する成分は、表面か...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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2022年4月15日(金)MST熊本営業所がオープン致しました!
熊本営業所を拠点とし、九州地区のお客様へ更なるサービス向上を目指します…
京本部(ラボ)との密接な連携で納得の品質・納期を実現します。 ご期待ください。 開所日:2022年4月15日(金) 住所:熊本県菊池郡大津町室161-1 ステーションM 102 ※サンプルのご送付は、東京都世田谷区の本部宛てにお願いします。 本部住所:東京都世田谷区喜多見1-18-6 電話番号:090-7017-3882(担当:武田)...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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無機窒素を形態別に分析可能です
窒素は様々な形態で化学・材料・食品・医薬等の幅広い分野において利用されています。窒素化合物は硝酸、亜硝酸、アンモニアなどの無機窒素化合物や、アミノ酸などの有機窒素化合物などからなります。サンプルが水溶液の場合、硝酸イオン、亜硝酸イオン、アンモニウムイオンなどの無機窒素化合物についてはイオンクロマトグラフ法、有機態窒素についてはHPLCやLC/MS、また無機窒素化合物と有機窒素化合物を合わ...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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サンプル内部の形状変化をin situで測定・解析
試料に応力(引っ張りもしくは圧縮)をかけた状態でX線CTによる内部構造分析を行うことが可能です。 本資料では、発泡ゴムを例として、通常状態と伸ばした状態においてin situ X線CT測定を実施し、取得したCT像から気泡の体積変化を解析しました。 in situ X線CT測定と画像解析技術を組み合わせることで、従来では評価が困難であった実使用条件下での評価や応力による製品への影響の評価が可能で...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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対象元素に応じて測定条件を選択
フレキシブル薄膜Si太陽電池において、a-Si(アモルファスシリコン)中のドーパントの濃度分布を定量的に評価した事例をご紹介します。樹脂で封止されたサンプルを解体し、SIMS分析を行いました。 Bの分析(図3)では表面側の浅い箇所に存在するため、深さ方向分解能を高めて測定を行いました。 Pの分析(図4)ではa-Si中に多量のHが存在して質量干渉を...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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断面マッピングにより、GaNの結晶成長の様子を評価可能
製造工程では、デバイス特性に影響を与える結晶欠陥の無い、高品質なGaN結晶の作製が求められます。 本資料では、c面上に形成したGaN基板(c-GaN基板)上に、c-GaN結晶を高速気相成長させたサンプルの結晶状態を評価した事例をご紹介します。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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ドーパントの活性化率に関する評価が可能
SRA(Spreading Resistance Analysis)はサンプルを斜め研磨し、その研磨面に2探針を接触させ、広がり抵抗を測定する手法です(図1)。 キャリア濃度分布を評価することで、ドーパントの活性化状況についての知見を得ることが可能です。 一例として、パ...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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表面凹凸のあるサンプルでのキャリア拡散層の均一性評価
BSF型結晶Si太陽電池について、表面側テクスチャ部および裏面側BSF部のキャリア拡散層分布をSCMにて評価した事例を紹介いたします。テクスチャ部では表面凹凸に沿ってpn接合が形成されているのに対し、BSF部ではキャリア分布に途切れがあり不均一であることが確認できます。...詳しいデータはカタログをご覧ください...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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固体中の有機体・無機体炭素量を評価することが可能です
全有機体炭素測定計(TOC計)は、試料中の全炭素(TC:Total Carbon) 、無機体炭素(IC:InorganicCarbon)をそれぞれ分けて定量することが可能です。サンプルは水溶液にすることなく固体のまま測定することができます。 本資料では市販の膨張剤、塩に含まれるTOC、TC、IC評価事例を紹介します。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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雰囲気制御下での切削により加工による変質を抑制
有機ELを搭載した市販のデジタルオーディオプレーヤーについて、通電により輝度が劣化したものと非通電のものの比較を行いました。 その結果、TOF-SIMSのスペトルにはサンプル間で差は見られませんでした。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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デバイス内部の構造を複合的に評価します
評価に適した技術を取り揃えており、観察視野や目的に応じた分析手法をご提案します。 本資料では、X線CTとFIB-SEMを用いてデバイスの特異箇所を調査した事例を紹介します。まずX線CTを用いてサンプル全体の内部構造を観察し、特異箇所を探索しました。続いて、ビア上に確認された特異的な構造物について、FIB-SEMを用いて詳細な構造を確認しました。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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PL:PhotoLuminescence
ス法とは、物質に光を照射し、励起された電子が基底状態に戻る際に発生する光を 観測する方法です。得られる発光スペクトルから、様々な情報を得ることが可能です。 ・バンドギャップ約3.5eVまでのサンプルを励起することが可能 ・マッピング機能により、広範囲の情報を得ることが可能 ・約10Kまでの測定が可能 ・一般的に非破壊の測定であり、特殊な前処理が不要 ...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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【分析事例】角度分解XPS(ARXPS)による極薄膜組成分布評価
基板上の極薄膜についてデプスプロファイルを評価可能です
角度分解XPS(ARXPS)はX線照射によって放出される光電子を取出角ごとに検出し、それぞれ検出深さの異なるスペクトルを用いてサンプル表面極近傍のデプスプロファイルを評価する手法です。従来のArイオンスパッタを用いた方法と比較すると、深さ方向分解能が向上し、かつ選択スパッタやミキシングによる組成変化が無いといったメリットがあり、...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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熱履歴を揃えた標準試料の活用提案
ポリプロピレン(PP)などの高分子材料は、大気中で加熱されると大気中の酸素や水分と反応し、分子構造が変化します。そのため、異物や付着物が高分子材料の可能性がある場合、測定サンプルと同じ環境で処理した標準物質を比較データとして用いる必要があります。 熱処理(200℃/30分)によってPP標準物質がどのように変化するかを調べるため、FT-IR及びTOFSIMS測定を行いま...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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数μmの深さまで深さ方向分析を行います
XPSは表面敏感な手法でありサンプル表面の評価に広く用いられますが、イオンエッチングを併用することで深さ方向の分析が可能です。 XPSでは深さ方向の組成分布に加えて結合状態の評価も可能なため、装置部材表面の変色の原因調査などに適し...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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クライオSEM観察-EDX分析で溶液試料の構造を直接評価
熱に弱い有機材料や液体試料の内部構造を観察・分析するには、加工や電子線照射による温度上昇を抑え、試料本来の構造を保ったまま一連の分析を行う必要があります。 本事例では化粧品を評価サンプルとし、冷却環境を維持したまま断面FIB加工・SEM観察・EDX分析までの構造分析を行った事例をご紹介します。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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TOF-SIMSでシラノール基の定量的な評価が可能です
響を与えます。そのため、その後の表面処理に影響を与える可能性が高く制御が必要となります。 シラノール基の定量をTOF-SIMSで行った事例をご紹介します。評価を行うにあたり、濃度の異なる数種類のサンプルを用いて検量線を作成しました。測定例では、材質・状態の異なるサンプル表面のシラノール基を比較しました。 測定法:TOF-SIMS 製品分野:LSI・メモリ・電子部品 分析目的:組成評価・同定...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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TOF-SIMSで無機物の分子情報を深さ方向に捉えることが可能
向分析では、(1)深さ方向分解能が良い、(2)酸化物・窒化物・ふッ化物・炭化物・合金・金属など無機物の化学状態の区別が可能、(3)微量な状態の評価が可能、(4)OHのモニターが可能、(5)相対的なサンプル間の比較(膜厚・組成)が可能、(6)イメージ分析により表面数nm程度について状態の分布を視覚的に捕らえた評価が可能です。 自然酸化膜と酸化膜の結果をまとめます。 測定法:TOF-SIMS 製...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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充電前後の電極の様子およびLiの存在・分布を評価可能
充放電時の非常に大きな体積変化のためにサイクル劣化が激しいと言われています。 充電前後のSi負極に関して雰囲気制御環境下で解体、観察をしました。更に、FIBマイクロサンプリング法により断面観察用サンプルを作成し、Csコレクタ付きSTEM装置で形状観察とEELS測定を行い、Si電極の様子と電極中のLi分布を評価しました。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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割断サンプルで50nm薄膜を可視化
AES分析は最表面から数nm深さまでの組成情報を得る手法ですが、試料の断面からAES測定を行って元素分布像を得ることで、層構造を明瞭に評価することが可能です。積層構造の評価やトレンチやホールの内壁の元素分析に加え、機械加工やイオンビーム加工を併用することで、薄い合金層や元素の拡散・偏析等も評価可能です。 本事例ではSi基板上に成膜された薄膜について、AES分析を用いて評価したデータをご紹介します...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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凹凸サンプルの組成分布評価が可能です
TOF-SIMSは元素分析と有機物・無機物の分子情報の解析が同時にできることや、イメージ分析が可能なことから、分布評価などに有効な手段です。 本資料では、ノズルの内壁を分析した事例を示します。 ノズル表面と内壁の分布が確認され、各部位でのピークの有無の確認ができました。 測定法:TOF-SIMS 製品分野:製造装置・部品・日用品 分析目的:組成分布評価 詳しくは資料をダウンロード、...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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【分析事例】TOF-SIMSによる微小領域の定性・イメージ分析
サブμmオーダーの異物、微小領域の定性・イメージ分析が可能
有機物・無機物の分子情報の解析が同時に可能なことから、異物や微小領域の評価に有効です。 本資料は、サブμmオーダーの微小領域の分析例をまとめます。 層構造の試料上にFIBでスパッタ加工を行ったサンプルを、TOF-SIMSで測定をしました。サブμmオーダーの微小領域を評価をすることが出来ています。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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TOF-SIMS分析による成分の推定が可能
基板やIC封止材など電子部品用途として、広く使用されています。エポキシ樹脂の原材料に一般的に用いられるビスフェノール類の試薬について、TOF-SIMSで測定したデータを取得しました。 MSTではサンプルの測定データと標準データとを比較することで、検出されたフラグメントイオンが何の成分由来かを調べることができ、エポキシ樹脂に用いられている材料の推定が可能です。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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光電子の平均自由行程を用いた膜厚の見積もり
シリコンウエハ上の自然酸化膜・シリコン酸窒化薄膜など、厚さ数nm以下の極薄膜について、サンプル最表面のSi2pスペクトルを測定します。得られたスペクトルの波形解析を行うことにより、各結合状態の存在割合を求め、この結果と光電子の平均自由行程から膜厚を見積もります(式1)。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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TOF-SIMS深さ方向分析による劣化評価
輝度が劣化した素子の有機層を大気に曝さずに前処理から深さ方向分析までを行った結果、通電後のサンプルではAlq3/発光層界面に拡散が見られました。 Slope Mapping(図1)およびイオンスパッタを利用した深さ方向分析(図2)の両方で同様の結果が得られています。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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雰囲気を保ったまま解体・前処理から装置導入まで可能
有機EL材料は空気に触れると変質することが知られています。窒素雰囲気中と大気中に放置した発光材料表面の状態についてTOF-SIMSから得られた結果を紹介します。窒素雰囲気で作製したサンプルでは親イオンが主として検出されますが、空気中に放置すると親イオンに酸素がついたフラグメントが検出されています。変質しやすい原料については大気にさらさず分析することが必要です。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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