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14件 - メーカー・取り扱い企業
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PR様々な粉体を液体中に分散・溶解が可能! ダマや溶け残りなし・短時間処理…
粉体の液体中への分散・溶解というと、タンク内の大型撹拌機で攪拌(撹拌)する、もしくはハンドミキサーで小容量の攪拌(撹拌)を何回も繰り返す、というのが一般的かと思います。ただ、これらの方法ではダマや粉体の溶け残り、処理時間が遅い、作業者に負担がかかるなど、お悩みはありませんか? 弊社の粉体溶解機を使用すれば粉体投入口が腰の位置にあるため、作業者の負担が軽減され効率的な作業が可能です。また、短時間で...
メーカー・取り扱い企業: 関西乳機株式会社
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半導体製造装置向けに設計されたチラーです。
半導体製造プロセスで使用される多くの装置には発生する熱を除去、 一定温度を保つために冷却装置(チラー)が必要とされます。 ThermoFisherScientific社半導体製造用チラーは ・高い生産性 ・長期にわたる信頼性 ・操作ミスを誘発しない簡易な操作性 が提供出来るようデザインされており、各社装置メーカー仕様に 設計されたOEMモデルです。 ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801
半導体製造工程のプラズマエッチングに好適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比…
半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。 ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。 非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。 さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスが...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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フロンガス不使用のペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエッチングに…
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack1801』
半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack1201』
半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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消費電力大幅削減!ペルチェチラー 『NIKOLA3K/5K』
フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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フロン対策はお済みですか?ペルチェチラー ThermoCube
コンパクト!消費電力大幅削減!低騒音・低振動!フロンガス不使用!ペルチ…
ています。オプションを多数用意しており、様々なカスタマイズが容易なデザインとなっています。フロンガス不使用で環境にやさしいチラーです。 *オプションに関してはお問合せ下さい 【特徴】 ■半導体製造装置の温度コントロール ■レーザーの冷却 ■ガス容器の温度コントロール ■スキャニング電子顕微鏡 ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比…
半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。 ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。 非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。 さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスが...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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