• 医療業界向け『産業用カメラ』※ホワイトペーパー無料進呈 製品画像

    医療業界向け『産業用カメラ』※ホワイトペーパー無料進呈

    PR高精度・高解像度で耐久性に優れ、診断装置や研究・開発装置などに活用可能…

    当社は、医療技術とライフサイエンス分野において大きな役割を担う 『産業用カメラ』を提供しています。 正確で信頼性の高いイメージングが行え、診断や分析、検査・製造など 医療分野の様々な場面で活躍。約5,000の製品をラインアップしており、 様々なアプリケーションに適用できます。 【特長】 ■低照度でも鮮明な画質で画像処理が可能 ■厳しい環境下でも使用できる耐久性 ■Made ...

    メーカー・取り扱い企業: アイ・ディー・エス株式会社

  • 無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』 製品画像

    無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』

    PR高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm~高濃度1200ppm まで…

    当社トラステック愛知が得意とするのは二酸化塩素の高精度の濃度計測と制御管理。 その技術を用いて開発したのが、二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』です。 除染効果の高い二酸化塩素ガスを用いた除染装置で、 精度に優れたガスの濃度測定と、ガスの制御機能を有しています。 搭載された高精度計測器により、低濃度0.05~高濃度1200ppm(校正値1000ppm 検知管使用 当社...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トラステック愛知 本社

  • 積層薄膜作製装置 製品画像

    積層薄膜作製装置

    多層塗りによる厚膜の作製!スピンコータに液だれ防止が工夫されている装置

    『積層薄膜作製装置』は、化学溶液法による積層薄膜作製プロセスである、 スピンコーティング、乾燥、焼成、冷却の各工程の繰り返しをロボットを 用いて行い、多層塗りによる厚膜の作製を自動で行う装置です。 コンピュ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 小型スパッタ装置 製品画像

    小型スパッタ装置

    対応基板は最大φ1インチまで処理が可能!デュアルガスノズルを備えた装置

    『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 高周波レーザーCVD装置 製品画像

    高周波レーザーCVD装置

    簡単に試料セットする事が可能!外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

    当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ(自動回転機構付き)があり、 外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。 サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。 簡単に試料セットする事ができます。 オプションでチャンバー上部にガス供給系(最大5系統)を設置する事も可能です。 【特長...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 2次元抵抗加熱蒸着装置 製品画像

    2次元抵抗加熱蒸着装置

    蒸着源はボートタイプ!基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

    『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用し...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • プラズマCVD装置 製品画像

    プラズマCVD装置

    漏洩マイクロ波検出用も付属!試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

    『プラズマCVD装置』は、実験用に極端に簡素化して製作されたCVD装置です。 マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで 製作し価格を下げております。 また、プラズマ発生域と試料...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • レーザーCVD装置 製品画像

    レーザーCVD装置

    サンプルMAXサイズ10mm口!耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

    『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 酸化シリコン成膜CVD装置 製品画像

    酸化シリコン成膜CVD装置

    3インチウェハ対応!コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

    当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。 コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。 内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。 また、3インチウェハ対応となっております。 【特長】 ■酸化シ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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