• マイクロリアクターULREA(アルリア)シリーズ 製品画像

    マイクロリアクターULREA(アルリア)シリーズ

    PR各種ナノ粒子の超精密合成、大量生産ができます。

    ULREA(アルリア)シリーズは2枚のディスク間にできるマイクロメートルオーダーの間隙を反応場、晶析場として応用した湿式法・連続式の反応装置です。 金属、合金、酸化物、複合酸化物、有機顔料など各種ナノ粒子の超精密合成・表面処理と大量生産が容易に実現できます。 その他、マイクロスフェア、ナノスフェアも容易に創製可能です。 【ULREA(アルリア)の特長】 1. 確実なスケールアッ...

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    メーカー・取り扱い企業: エム・テクニック株式会社

  • 凍結乾燥機の試験乾燥 製品画像

    凍結乾燥機の試験乾燥

    PRフリーズドライ装置導入を検討されているお客様へ試験乾燥実施中です!

    弊社では、フリーズドライ装置導入を検討されているお客様を対象に試験乾燥を実施しております。 試験機を実際に見ながらご説明し、ご質問等にお答えします。 今までにも製薬会社様、食品会社様、化粧品会社様など、多くのお客様が試験乾燥を実施してきました。 ご興味のある方はお気軽にお問い合わせください。...共和真空技術株式会社の工場は埼玉県熊谷市にございます。 様々な試験機を設置している東工...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • エピ膜厚測定装置『EIR-2500』 製品画像

    エピ膜厚測定装置『EIR-2500』

    IR反射率測定ヘッドを使用可能!高スループットのエピ膜厚測定を実現した…

    『EIR-2500』は、FTIR機能と共に、赤外分光反射率計を備えた独自の エピ膜厚測定装置です。 高スループットのエピ膜厚測定を実現し、適用されるSEMI/CE規格に完全に 準拠しています。 また、EIR製品シリーズは、高性能で信頼性の高い電子機器に基づいており、 装置の...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 非接触移動度測定装置『LEI-1610シリーズ』 製品画像

    非接触移動度測定装置『LEI-1610シリーズ』

    様々な半導体キャリア輸送特性の測定が可能!マイウロウェーブ反射による非…

    、キャリア移動度は、とても重要なパラメーターに なります。 『LEI-1610シリーズ』は、移動度、キャリア濃度、シート抵抗など様々な 半導体キャリア輸送特性の測定が可能な非接触移動度測定装置です。 2インチから最大8インチまでのSiウェーハ、化合物半導体(GaAs、GaN、InP等) epiウエハを非接触・破壊にてキャリア移動度、シート抵抗、シートチャージ密度が 測定できます...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 拡がり抵抗測定装置『SRP-170/2100』 製品画像

    拡がり抵抗測定装置『SRP-170/2100』

    PN接合の深さおよびキャリヤ濃度分布を測定!オプションにより表面抵抗測…

    当社が取り扱う、拡がり抵抗測定装置『SRP-170/2100』をご紹介します。 斜め研磨したSiウェハーを深さ方向に2探針をコンタクトさせ、 そのプローブ間の拡がり抵抗値からSiの深さ方向の比抵抗プロファイル、 EPI層の...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式) 製品画像

    結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式)

    結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式)

    結晶欠陥分析装置 SIRM-300は、非接触、非破壊にて結晶欠陥測定が可能な光学測定器です。 様々なバルク特性解析(バルク/半導体ウェハーの表面付近の酸素、金属 堆積物、空乏層、積層欠陥、スリップライン、転位)が...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 超高感度DLTS バルク内欠陥・界面準位測定装置 製品画像

    超高感度DLTS バルク内欠陥・界面準位測定装置

    不良及び結晶欠陥の解析に有効!幅広いクライオスタット用のインターフェイ…

    『DLS-83D/1000』は、温度、周波数スキャン、C-V特性等の測定が可能な バルク内欠陥・界面準位測定装置です。 「DLS-1000」は、10^8cm3レベルのバルク内欠陥、界面準位の高感度な 測定に対応。ライブラリーを標準装備しておりますので解析が容易に行えます。 高感度アナログ/デジタ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • ライフタイム測定装置 製品画像

    ライフタイム測定装置

    u-PCD法でのマッピング測定が可能であり、太陽電池、半導体のマーケッ…

    ライフタイム測定装置 WT-2000は、u-PCD法でのマッピング測定が可能であり、太陽電池、半導体のマーケットに非常に多くの実績があります。 シリコン・ブロック/ウェハーのライフタイム測定をし、マッピング表示が可能...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 薄膜膜厚・ヤング率測定装置 SW3300 製品画像

    薄膜膜厚・ヤング率測定装置 SW3300

    薄膜膜厚・ヤング率測定装置

    非接触、非破壊でウェハー基板上の薄膜膜厚、膜のヤング率、 ポアソン比を測定することができる。 ...パルスレーザーを薄膜表面に 照射し、薄膜上で熱に変換されたエネルギーが 薄膜を熱膨張させる。 局所的に膨張した薄膜表面では音響振動が発生する。この音響振動の周波数 を物理モデルに導入し薄膜の膜厚やヤング率、ポアソン比を算出する。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 光学式細孔率・細孔分布測定装置 製品画像

    光学式細孔率・細孔分布測定装置

    世界唯一の分光エリプソメーター技術でのEP(光学式ポロシメーター)細孔…

    ■ 前処理が必要がなく、 20分/ポイントと従来型に比べて高速に測定が可能です。 ...【アプリケーション】 ・Low-k膜の細孔率測定 ・色素増感太陽電池のTiO2細孔率測定 ・細孔サイズ(0.5~65nm)、厚さ(50nm~5um)のサンプル 【特徴】 ・膜厚、屈折率、表面積、浸透率、ヤング率、CTE計測も測定可能 ・従来の方式に比べ、短時間での測定が可能(20分/point...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 結晶欠陥測定装置 (光散乱断層撮影式) 製品画像

    結晶欠陥測定装置 (光散乱断層撮影式)

    結晶欠陥測定装置 (光散乱断層撮影式)

    シリコンウェハーの結晶欠陥が高速測定可能。...LSTは、CCDカメラを使用し、切断されたウェハーサンプル断面の結晶欠陥を測定します。...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 薄膜太陽電池パネル測定装置 製品画像

    薄膜太陽電池パネル測定装置

    薄膜太陽電池パネル測定装置

    フラットパネルディスプレイ製造マーケットでは、品質管理用途にて非常に多くの実績がございます。...太陽電池で必要な様々な光学系、電気系測定が1台で可能です。  - 分光エリプソ(膜厚、光学特性)  - ライフタイム測定  - シート抵抗測定  - 比抵抗測定  - ラマン分光 第10世代パネル対応まで対応可能です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 単結晶シリコンブロック用ライフタイム測定装置 製品画像

    単結晶シリコンブロック用ライフタイム測定装置

    単結晶シリコンブロック用ライフタイム測定装置

    ライフタイム測定器 WT-2000PIは、e-PCD技術を使用し、パッシベーション処理なしの単結晶シリコンインゴット状態で少数キャリアライフタイムを測定します。...ライフタイム測定器 WT-2000PIは、e-PCD技術を使用し、パッシベーション処理なしの単結晶シリコンインゴット状態で少数キャリアライフタイムを測定します。...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 比抵抗測定器 製品画像

    比抵抗測定器

    渦電流技術を用いて、非接触/非破壊にてシリコンインゴット/ブロックの抵…

    太陽電池のブロック/ウェハー/セルのマッピング測定可能な装置もご提供可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

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