半自動液体充填機 KC-W-20SKVG

PR新型指示計搭載で使いやすさと拡張性を大幅に向上！

発泡性や粘度のある液体にも対応する、１８L缶、バッグインボックス、ペール缶などの容器へ定量充填可能な非防爆型液体充填機です。 搭載指示計を刷新し、充填精度はそのままに、Wi‐Fi無線ユニットを標準装備する等、使いやすさと拡張性を向上させました。 ステンレス製ケースでIPX5の防水性能を備えており、水を扱う現場で安心してご使用いただけます。また、過不足充填を防ぐことが可能なため、飲料･調味料･油脂･...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クボタ計装

KrosFlo KR2i RPM システム

PRサイクル時間を短縮！歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

メーカー・取り扱い企業： レプリジェンジャパン合同会社

真空対応1nmフィードバックステージFS-1020UPX(V)

【真空で使用可能】1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置…

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバー内で使用可能です。 リニアエンコーダを内蔵しているため、クローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージ　50mm動作

【真空対応】リニアエンコーダの位置情報で再現性が取れる10nm分解能で…

を出さない部品でステージを作りました。 そのため、真空チャンバー内にステージを導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

特注例 X軸・XY軸ステージ（透過穴追加）

ステージ中央にφ100mmの透過穴（開口）を追加したステージ

○5相ステッピングモータ、カップリング、ボールねじ、リニアスケール内蔵 ○フルクローズドループ制御により高精度な繰返し位置決めが可能 ○分解能：5nm / 10nm / 50nm / 100nm ○ストローク：30mm（※画像のステージ「FS-1030X」の場合） ※その他の仕様はお問い合わせくださ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応1nmフィードバックステージFS-1050UPX(V)

[真空対応]1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めス…

ガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っており、大気用と同等の特徴を備えています。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応5nmフィードバックステージ　50mm動作

真空中で使える　5nm分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決め…

ガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応1nmフィードバックステージFS-1040UPX(V)

[1nm分解能]真空中で使用できるリニアエンコーダ内蔵ステージ

にそのまま導入可能です。 動作範囲が40mmとなっており位置決めと移動が１台でできます。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っており、大気用と同等な特徴を備えています。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージ　100mm動作

【10nm分解能】真空中で使用可能なリニアエンコーダ内蔵のロングステー…

応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 移動範囲100mmと長いため試料の移動と精密位置決めが１台で可能だったり、広範囲のデータ（スペクトル等）が必要な場合に有効です。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージ　20mm動作

【真空中で使用可能】10nm分解能で動作するリニアエンコーダ内蔵の高性…

応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 20mmストロークを10nm分解能で位置決めができます。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージ　40mm動作

【真空対応】40mmの範囲を10nm分解能で動作する高性能位置決めステ…

ガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応5nmフィードバックステージ　20mm動作

真空中で使える　リニアエンコーダによる5nm分解能の高性能位置決めステ…

位置決めステージにアウトガス対策を施してあるため、真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 20mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応5nmフィードバックステージ　40mm動作

真空中で使える　5nm分解能で40mm動作の高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社