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光洗浄や光薄膜形成、光改質や光化学修飾など、様々な産業分野への応用が可…
面積処理が容易：指向性の高いレーザではなく、大面積照射が容易な放電管を用いるため ■高速な処理が可能：光の波長が短く光子エネルギーが高く、光出力も数mW/cm2と高いため ■室温処理が可能：高温焼成が必要なセラミック薄膜形成を、室温程度で行える ■パターニング可能：密着型光マスクを使えば、マイクロメータ単位のパターニングが可能 ■材料を選ばない：光の波長が短く光子エネルギーが高いため、大抵...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー
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強い酸化作用を利用！照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質につい…
比較的低温の熱処理でシリカ膜を得る方法として、ペルヒドロポリシラザン等の セラミック前駆体ポリマーを大気中あるいは水蒸気中において450℃程度の温度で 焼成する方法が報告されています。 本研究は、TMOSやTEOSと異なりOを含まないPHPSを低温でシリカへ転化させるために、 酸素の活性種における強い酸化作用を利用することを目的としました。 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー
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