ドラフトチャンバー『ウォークインタイプ DFW型』

PR内部に大型の実験装置や機器を組込めるウォークインタイプのドラフトチャン…

『ウォークインタイプ DFW型』は、多田製作所社製のドラフトチャンバーです。 ドラフトチャンバー内部は床面より十分な有効高さを持っていますので、 フード内に大型の装置や機器を組み立てたり、外部で組み立てた装置を フード内に移動させることも容易に行えます。 独自の気流設計により床面に発生するガスもスムーズに排気されます。 オールステンレス製や防爆仕様等、ご要望に応じた設計が可能です...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社多田製作所

化合物保管庫『StoragePod』『MultiPod』

PR化合物を窒素環境下で保管し、濃度・溶解性・活性を維持。アプリケーション…

化合物保管庫『StoragePod』『MultiPod』は、 化合物DMSO溶液を保管する際の品質維持に役立つ製品です。 【特長】 ■窒素でパージし、化合物を窒素環境下で保管 ■DMSOの吸湿、濃度の希釈、沈殿による化合物の損失を回避 ■化合物の濃度、溶解性、活性を維持 ■『StoragePod』はモジュール式のため保管容量を簡単に拡張可能 ■吸水したDMSOの脱水も可能 ■微量分注装置「I.D...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

積層薄膜作製装置

多層塗りによる厚膜の作製！スピンコータに液だれ防止が工夫されている装置

『積層薄膜作製装置』は、化学溶液法による積層薄膜作製プロセスである、 スピンコーティング、乾燥、焼成、冷却の各工程の繰り返しをロボットを 用いて行い、多層塗りによる厚膜の作製を自動で行う装置です。 コンピュ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

高周波レーザーCVD装置

簡単に試料セットする事が可能！外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ（自動回転機構付き）があり、 外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。 サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。 簡単に試料セットする事ができます。 オプションでチャンバー上部にガス供給系（最大5系統）を設置する事も可能です。 【特長...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

2次元抵抗加熱蒸着装置

蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用し...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

プラズマCVD装置

漏洩マイクロ波検出用も付属！試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

『プラズマCVD装置』は、実験用に極端に簡素化して製作されたCVD装置です。 マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで 製作し価格を下げております。 また、プラズマ発生域と試料...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

酸化シリコン成膜CVD装置

3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。 コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。 内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。 また、3インチウェハ対応となっております。 【特長】 ■酸化シ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック