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PR繰り返し使うことで環境負荷削減！金属製の高性能な高温集塵フィルター。
「パイロスクリーン」は、ステンレスまたは、アルミ製の高温集塵フィルターです。 ダストを含んだ気流を強制的に方向転換させるスクリーンを10枚複合することで、90～99%以上の除塵効率を実現しました。 圧力損失が極めて小さい点、材質・構造から高強度な点が大きな特長です。 【パイロスクリーンの特長・メリット】 ■乾性・湿性どちらにも使用可能 ステンレス製フィルターなので乾・湿どちらにも使...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社布引製作所 本社
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PRサイクル時間を短縮！歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます
当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...
メーカー・取り扱い企業： レプリジェンジャパン合同会社
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非接触式の重金属汚染・CV/IV・膜評価装置。 鉄濃度測定の感度はD…
世界に400台以上の実績を持つ非接触式の重金属汚染・CV/IV・膜評価装置です。 鉄濃度測定の感度はDSPVを採用することでE8を実現し、近年のCMOSイメージセンサーの歩留まり向上に寄与しております。 化合物半導体のCV測定が可能です。非接触で面内の濃度分布、プロファイル測定が可能...
メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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PN接合の深さおよびキャリヤ濃度分布を測定！オプションにより表面抵抗測…
介します。 斜め研磨したSiウェハーを深さ方向に2探針をコンタクトさせ、 そのプローブ間の拡がり抵抗値からSiの深さ方向の比抵抗プロファイル、 EPI層の厚み、PN接合の深さおよびキャリヤ濃度分布を測定。 「SRP2000」は、プローブのコンディショニング、ベベルアングルの測定、 標準サンプルのデータ入力などが全自動化し、多数サンプルの連続自動 測定ができ、サンプルは最大6個同...
メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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IR反射率測定ヘッドを使用可能！高スループットのエピ膜厚測定を実現した…
【その他の特長】 ■酸素濃度、炭素濃度測定 ■ロードポート：シングルまたはデュアルカセットロードポート ■高速マッピングステージ ■IR反射率測定ヘッドを使用可能（エピ膜厚用） ■追加の測定ヘッドを使用可能（分光エリプ...
メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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【デモ可能】化合物半導体材料の組成比の評価も可能！非接触・非破壊でエピ…
る薄膜評価装置です。 化合物半導体材料の組成比の評価も可能。 主な評価・測定項目は、“薄膜の膜厚値”、“エピ膜厚値”、“屈折率”、 “消衰係数”、“化合物半導体の組成比”、“ドーパント濃度”です。 【主な評価・測定項目】 ■薄膜の膜厚値 ■エピ膜厚値 ■屈折率、消衰係数 ■化合物半導体の組成比 ■ドーパント濃度 装置の仕様や価格については、お気軽にお問い合わせ下...
メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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非接触でエピウェハの抵抗率をモニター可能！
ことができます。測定原理としてサーフェイスフォトボルテージ（ＳＰＶ）法を用いてウェハー上にパルス光を照射することによりウェハー表面電位変化を検出し、空乏層幅を測定します。強反転状態の空乏層幅が不純物濃度に比例することにより、不純物濃度測定を行い、抵抗率に換算（ASTM)します。 ...
メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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トレンチ深さ測定装置
DRAMのキャパシタートレンチの深さ、CD測定、リセス測定を非接触で測定。独自技術MBIR（Model Based Infrared)により高アスペクト比のトレンチの測定が可能。また、エピ膜のドープ濃度の縦方向プロファイルの測定にも対応。 ...
メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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薄膜光学特性を非破壊で測定！ 手軽に高精度測定できる分光エリプソメト…
日本セミラボの分光エリプソメーター『GES5E』は、従来の光学測定器では不可能だった薄膜光学特性の測定を非破壊で実現しました。 薄膜、多層膜の膜厚、各層の屈折率（N,K値）波長分散を算出。研究開発からインライン生産品質管理ほかあらゆる分野で活躍しています。 【測定可能な物理特性】 ■厚さ光学屈折率 ■屈折率の勾配と材料組成 ■ドーパント濃度
メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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様々な半導体キャリア輸送特性の測定が可能！マイウロウェーブ反射による非…
半導体デバイスの製造にとって、キャリア移動度は、とても重要なパラメーターに なります。 『LEI-1610シリーズ』は、移動度、キャリア濃度、シート抵抗など様々な 半導体キャリア輸送特性の測定が可能な非接触移動度測定装置です。 2インチから最大8インチまでのSiウェーハ、化合物半導体（GaAs、GaN、InP等） epiウエハ...
メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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超高感度DLTSシステム／ バルク内欠陥・界面準位測定装置
主な測定・評価項目 主な測定・評価項目 ・測定Max感度 : C=2x10-5pF for S/N=1 （温度・周波数スキャンに可変時） ・トラップ濃度：Nt＜10-5INd-Na) ・I-V/C-Vプロット ・捕獲断面積測定 ・電界依存性測定 ・トラップ深さ測定 ・Mos測定 ...
メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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回転補償子型 分光エリプソメータ『SE-2000』※セミナー開催
多層膜の膜厚・屈折率を非接触で高精度測定。本体の操作や解析作業が容易 …
フトを備えており、解析作業が容易。 深紫外から近赤外領域まで幅色い波長領域の測定に対応しています。 材料の組成比、異方性、Mueller Matrix、偏光解消度、反射率・透過率、ドーパント濃度、 リタデーション(R0、Rth)などに関する検査にも対応しており、幅色い用途で活用可能です。 【特長】 ■高精度CCD、高分解能PMT搭載 ■光学モデルのデータベースが豊富 ■多彩...
メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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全自動拡がり抵抗測定装置
Profiler)装置は，斜め研磨したSiウェハーを深さ方向に２探針をコンタクト させそのプローブ間の拡がり抵抗値からSiの深さ方向の比抵抗プロファイル，EPI層の厚み，PN接合の深さおよびキャリヤ濃度分布を測定する装置です。 ...
メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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u-PCD法でのマッピング測定が可能であり、太陽電池、半導体のマーケッ…
オプションにて様々な電気的測定のマッピング測定が可能です。 (拡散長、鉄濃度、比抵抗、シート抵抗、LBIC、反射率、IQE、PN判定)...
メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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