• 【技術資料】湿式プロセスによるTiO2ゲル膜に対する光照射効果 製品画像

    【技術資料】湿式プロセスによるTiO2ゲル膜に対する光照射効果

    薄膜形成プロセスの低温化に寄与!分解過程と結晶構造の変化について比較検…

    による熱過程をともなわずに光子の作用のみで原子の結合を開裂 できるため、薄膜形成プロセスの低温化に寄与するものと期待できます。 本研究では、工業的に多用されているTiO2について、ゲル膜を熱処理した ときおよび、エキシマランプによるVUV光照射と熱処理を併用したときの 分解過程と結晶構造の変化について比較検討しました。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験方法 ■結果と考察 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • 【技術資料】真空紫外光照射によるゾル-ゲル薄膜の改質 製品画像

    【技術資料】真空紫外光照射によるゾル-ゲル薄膜の改質

    紫外・可視光透過スペクトルを分光光度計により測定!ゾル-ゲル薄膜の改質…

    均一な組成をもつコーティング膜を得る方法として有力なゾル-ゲル法は、 ゲル膜からの水分の除去や有機成分の分解には、通常、数百℃の熱処理を 要するため耐熱温度の低いプラスチック上に強固な膜を得るのは難しいです。 そこで、真空紫外(VUV)光を用いた光量子(フォトン)プロセスは、照射に よる熱過程をともなわずに、光子の作用...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • 【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成 製品画像

    【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成

    強い酸化作用を利用!照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質につい…

    比較的低温の熱処理でシリカ膜を得る方法として、ペルヒドロポリシラザン等の セラミック前駆体ポリマーを大気中あるいは水蒸気中において450℃程度の温度で 焼成する方法が報告されています。 本研究は、TMOS...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

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