ピュアスチーム発生装置

PR省スペースを実現。ピュアスチーム発生量に比例して供給水量を制御。

本装置は、独自に開発した高効率の上昇流下液膜方式の蒸発缶を採用。 さらに、独自の圧力制御（予測制御）により発生蒸気圧力を安定して供給することが可能です。 SUS316L＋EP仕様でピュアスチーム発生量ごとにラインアップしております。 【特長】 ■蒸発缶と気液分離缶を一体化させることで省スペースを実現 ■始動より定格運転までの立上がりが早い ■飛沫同伴が生じないサイクロン方式の気液分...

メーカー・取り扱い企業： クリーンメカニカル株式会社 本社

DNAコード化ライブラリー(DEL)：創薬スクリーニングの新手法

PR研究の初期段階を加速！NGSで化合物スクリーニングができるDNAコード…

効率的な化合物スクリーニング手法として、 創薬の現場などで一般的な手法として確立されてきているDNAコード化ライブラリー（DEL）。 Sigma-Aldrichでは多くの研究者がDELの技術を広く利用できるようするために、 独自のダイナミックライブラリー技術を持つDyNAbind社の協力を得てDELを簡易キット化しました。 準備された実験プロトコルに従いスクリーニングを進めた後は、...

メーカー・取り扱い企業： メルク株式会社ライフサイエンス（シグマ アルドリッチ ジャパン合同会社）

フィードバックステージシステム総合カタログ（大気・真空）第5版

リニアエンコーダでナノメートル分解能・高再現性・高保持性を実現！特注製…

◎大気用位置決め装置 　自社開発の光学式リニアスケールを搭載したフィードバックステージと、独自の 　フィードバック制御機能を有したフィードバックステージコントローラにより、 　高分解能・高い繰り返し再現性・高位置保持性を達成した位置決め装置です。 ◎真空対応システム 　光学式リ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

Z軸用サブミクロンステージ FS-1005Z/1010Z

【精密位置決め装置】50nm又は100nmの高分解能・高い位置決め再現…

スケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

長ストロークに対応！精密位置決め装置

長距離（150mm）を細かく位置決め可能！『精密位置決め装置（分解能：…

位置決めステージ。 長ストローク（150mm）を細かく（10nm単位※）位置決め可能。 ストロークが長いため、光学実験での光学遅延を作るのに適しています。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性を位置決め後の位置保持性を備えております。 ※フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ ■詳しくはお問い合...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

サブミクロンフィードバックステージ FS-1020X/XY

【エンコーダ内蔵】高分解能かつストロークが長い位置決めステージ

て検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 50nm 』又は『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 20mm 』となっております。 自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-111又はFC-411との組み合わせ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

総合フィードバックステージシステムカタログ（大気・真空）

リニアスケールフィードバックで高分解能・高再現性・高保持性を実現したス…

◆大気用位置決め装置 自社開発の光学式リニアスケールを搭載したフィードバックステージと、独自のフィードバック制御機能を有したフィードバックステージコントローラにより、 高分解能 ・ 高い繰り返し再現性 ・ 高位置保持性を達成した位置決め装置です。 ◆真空対応システム 光学式リ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

総合フィードバックステージシステムカタログ（大気・真空）第5版

リニアエンコーダでナノメートル分解能・高再現性・高保持性を実現したステ…

◆大気用位置決め装置 自社開発の光学式リニアスケールを搭載したフィードバックステージと、独自のフィードバック制御機能を有したフィードバックステージコントローラにより、 高分解能 ・ 高い繰り返し再現性 ・ 高位置保持性を達成した位置決め装置です。 ◆真空対応システム 光学式リ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

Z軸用10nmステージ FS-1005PZ/1010PZ

【昇降ステージ】リニアエンコーダ内蔵により10nmの高分解能・高い位置…

光学式リニアエンコーダを内蔵した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージ FS-1050PX/XY

【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後…

ルをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

サブミクロンフィードバックステージ FS-3150X/XY

【ロングストローク】エンコーダを内蔵した高分解能・高い位置再現性・高い…

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 『 50nm 』又は『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 150mm 』とな...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

5nmフィードバックステージ FS-1050SPX/XY

【精密位置決め装置】5nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の…

ールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

5nmフィードバックステージ FS-1040SPX/XY

【精密位置決め装置】リニアエンコーダを内蔵し、5nm分解能で動作する位…

ールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路によりフルクローズドループ制御を行っているため、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

5nmフィードバックステージ FS-1020SPX/XY

【エンコーダ内蔵】分解能・位置決め再現性・位置保持性が高い5nm分解能…

ーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 20mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージ FS-1040PX/XY

【ストローク40mm】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置保持…

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、分解能、位置決め再現性、位置保持性が優れております。 フィードバックステージコントローラ FC-511と組み合わせることでエンコーダの読み取り値の『10nm』分...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社