半導体 | イプロス医薬食品技術

PRいつも清潔　まるごと洗える撹拌機　オイルやグリースは不使用

水で撹拌機を動かすため設置環境には電気は不要。またモータ・撹拌機本体はグリースやオイル等一切使用していません。撹拌機まるごと水洗い可能でいつでも清潔です。水産・食品工場等の油分を嫌うシチュエーションをはじめ、危険場所や漏電の危険がある環境下等でも安心してご使用いただけます。...【仕様】 ■型式：RJ02-ADS ■回転数：約350~1200rpm ■接液材質：（軸）SUS304/（翼）...

メーカー・取り扱い企業：株式会社島崎エンジニアリング本社

『ポリリジン』 | 天然微生物が発酵する天然カチオンポリマー

PR食品保存料・衛生材料・日用品に使用できるアミノ酸由来の天然カチオンポリ…

ε-ポリリジン（以下、ポリリジン）はヒト必須アミノ酸のL-リジンのε位のアミノ基とα位のカルボキシル基がアミド結合により25～35個連なったホモポリマーです。 30年以上の製造実績があり、食品保存料として広く使用されているアミノ酸由来の保存料ですので、衛生材料などでも活用できます。例えば、ウェットティッシュ、歯磨き粉、シャンプー、スカルプケアなど生活に密着した日用品の、合成ポリマー削...

メーカー・取り扱い企業： JNC株式会社

非接触移動度測定装置『LEI-1610シリーズ』

様々な半導体キャリア輸送特性の測定が可能！マイウロウェーブ反射による非…

半導体デバイスの製造にとって、キャリア移動度は、とても重要なパラメーターになります。『LEI-1610シリーズ』は、移動度、キャリア濃度、シート抵抗など様々な 半導体キャリア輸送特性の測定が可能な非接触移動度測定装置です。 2インチから最大8インチまでのSiウェーハ、化合物半導体（GaAs、GaN、InP等） epiウエハを非接触・破壊にてキャリア移動度、シート抵抗、シートチャージ...

メーカー・取り扱い企業：日本セミラボ株式会社新横浜本社

薄膜評価装置『分光エリプソメーター』

【デモ可能】化合物半導体材料の組成比の評価も可能！非接触・非破壊でエピ…

『分光エリプソメーター』は、非接触・非破壊でエピ膜を含む薄膜の膜厚値、屈折率、消衰係数を精度良く測定する薄膜評価装置です。化合物半導体材料の組成比の評価も可能。主な評価・測定項目は、“薄膜の膜厚値”、“エピ膜厚値”、“屈折率”、 “消衰係数”、“化合物半導体の組成比”、“ドーパント濃度”です。【主な評価・測定項...

メーカー・取り扱い企業：日本セミラボ株式会社新横浜本社

分光エリプソメーター GES5E

薄膜光学特性を非破壊で測定！手軽に高精度測定できる分光エリプソメト…

○DSSC　○有機物等の、光学特性の測定が可能　○ITO膜【測定可能な物理特性】 ○膜厚と光学屈折率(n,k)　○屈折率の勾配と材料組成【アプリケーション】 ○半導体　○シリコン、有機、化合物半導体　○太陽電池　○有機EL　○LED　○ポリマー　○フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）　○医療、バイオ　○ＰＥＴフィルム　○燃料電池　○グラフェン【...

メーカー・取り扱い企業：日本セミラボ株式会社新横浜本社

ライフタイム測定装置

u-PCD法でのマッピング測定が可能であり、太陽電池、半導体のマーケッ…

ライフタイム測定装置 WT-2000は、u-PCD法でのマッピング測定が可能であり、太陽電池、半導体のマーケットに非常に多くの実績があります。シリコン・ブロック/ウェハーのライフタイム測定をし、マッピング表示が可能です。 ※ シリコンウェハー/ブロックのインライン全自動測定装置もございます...

メーカー・取り扱い企業：日本セミラボ株式会社新横浜本社

水銀プローブCV/IV測定装置『MCVシリーズ』

水銀プローブにより電極の形成が不要！R&Dにおける開発時間の短縮、Lo…

『MCV-530/530L/2200/2500』は、半導体シリコンウェハーの電気特性や MOSデバイスの酸化膜等の特性評価を可能にする装置です。従来ではウェハーにゲート電極としてPoly-SiやAl等を蒸着し、MOS構造・ショットキー構造形...

メーカー・取り扱い企業：日本セミラボ株式会社新横浜本社

非接触CV測定装置 Cn0CV

非接触式の重金属汚染・CV/IV・膜評価装置。鉄濃度測定の感度はD…

の実績を持つ非接触式の重金属汚染・CV/IV・膜評価装置です。鉄濃度測定の感度はDSPVを採用することでE8を実現し、近年のCMOSイメージセンサーの歩留まり向上に寄与しております。化合物半導体のCV測定が可能です。非接触で面内の濃度分布、プロファイル測定が可能です。...

メーカー・取り扱い企業：日本セミラボ株式会社新横浜本社

非接触式シート抵抗測定機『LEI-1510シリーズ』

広い範囲で優れた測定直線性！三次元グラフィックマップとしてPCモニター…

り付ける事により、多数枚を迅速に計測処理する事が可能。四探針方式で起こる、探針の接触汚染や接触具合による再現性の問題を解決します。 2インチから最大8インチまでのSiウェーハ、化合物半導体(GaAs、GaN、InP等) epiウエハを非接触・破壊にてシート抵抗を測定します。【特長】 ■探針の接触汚染や接触具合による再現性の問題を解決 ■多数枚を迅速に計測処理する事が可...

メーカー・取り扱い企業：日本セミラボ株式会社新横浜本社

表面電荷分析装置 SCA2011

表面電荷分析装置

表面電荷分析装置は、半導体前工程管理とりわけ熱酸化膜、ＣＶＤ膜形成、メタライゼーション、洗浄及びエッチングなどプロセス中に生じた汚染とダメージのモニタリングに最適です。 ...

メーカー・取り扱い企業：日本セミラボ株式会社新横浜本社

結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式)

結晶欠陥分析装置 SIRM-300は、非接触、非破壊にて結晶欠陥測定が可能な光学測定器です。様々なバルク特性解析(バルク/半導体ウェハーの表面付近の酸素、金属　堆積物、空乏層、積層欠陥、スリップライン、転位)が可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業：日本セミラボ株式会社新横浜本社

PN判定器

シリコンウェハー/ブロックのPN判定が瞬時に行えます

PN判定器 PN-100は、半導体材料を非接触/非破壊にて P/Nタイプ判定いたします。シリコン端材、スクラップを含むシリコンインゴット原料のPN判別用途に最適です。...

メーカー・取り扱い企業：日本セミラボ株式会社新横浜本社