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88件 - メーカー・取り扱い企業
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648件 - カタログ
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ラマン分析を用いた薬液処理前後の状態評価
HF（フッ化水素）は、SiO2のウェットエッチング処理等で広く用いられており、半導体製造プロセスにおいて非常に重要な役割を果たします。しかし、一方で皮膚に触れてしまうと浸透し、骨を侵してしまうため非常に危険な薬品であり取り扱いには注意が必要です。 このHFによる骨の侵食は、アパ...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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試料解体から測定まで一貫して対応します
本資料では、スマートフォン搭載のイメージセンサ拡散層に関して評価した事例をご紹介します。 半導体のp/n型を判定可能なSCM（走査型静電容量顕微鏡）を用い、拡散層がどのような分布となっているかを評価しました。今回、断面と平面のSCM結果を組み合わせることで、相補的かつ広範囲の情報が得られまし...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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IC（イオンクロマトグラフ）法でアミン類の測定が可能です
水酸化テトラメチルアンモニウム（TMAH）は、半導体の現像液やエッチング液として用いられています。 Siのエッチング液に用いたTMAH溶液の濃度を測定する場合、溶液中に多量に溶解したSiが夾雑物となり、測定結果に影響を与える場合がありますが、IC...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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溶液中の有機酸の定性・定量分析が可能です
クエン酸やリンゴ酸などの有機酸は半導体分野においてエッチング液やメッキ液の添加剤として、また食品中の酸味剤・乳化安定剤として、化学工業・医薬・食品などの分野で幅広く利用されています。 特にメッキ液中の有機酸濃度は、使用の過程でバラン...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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真空中での有機物からの脱ガス挙動を調査可能です
エポキシ樹脂は半導体封止材として、また真空装置内外で接着剤や真空リーク対策として使用されています。しかし硬化後であっても加熱により脱ガスが発生する場合があり、製品や装置に悪影響を及ぼす可能性があります。TDS（昇温脱...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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【分析事例】イオン注入及びアニール処理を行ったSiの低温PL
照射欠陥やアニールによる結晶性の回復を確認することが可能です
Si系半導体デバイスの作製ではイオン注入やアニール処理といった様々な処理が行われます。これらの処理前後における照射欠陥の度合いや結晶性の回復度合いを確認することは、製造プロセスを制御するにあたり重要と考えられ...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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TD-GC/MSにより部材に付着した微量の有機汚染を分析します。
精密機器や真空装置、半導体製造装置においては、用いられる部材の汚染により製品の品質や装置の安定稼働に悪影響を及ぼすことがあります。本事例では種類の異なる使い捨て手袋でガラス部材を扱い、ガラス部材に付着した有機汚染を発生ガス...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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ITO表面プラズマ処理後のUPS分析
半導体デバイスでは、構成される各種材料の仕事関数の組み合わせにより、その性能が大きく左右されます。このため、表面処理や表面修飾等によって仕事関数を制御しようとする試みがなされており、それらの効果を検証することは重要です。 本資料では、有機ELや太陽電池等の電極材料として用いられるITO（SnドープIn2O3）について、表面プラズマ処理前後での仕事関数変化をUPS分析により評価した例をご紹介します。...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能
半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶 Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが 知られています。 高分解能なXPSスペクトルではc(単結晶)-Siとa(アモルファス)-Siが異なったピーク形状で検出されること を利用して、この損傷由来のa-Siをc-Siと分離して定量評価した事例をご紹介します...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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断面方向からライフタイムキラーの影響を確認することが可能です
IGBT(絶縁ゲートバイポーラトランジスタ)はパワー半導体モジュールとして、家電用品から産業機器まで様々な製品に使用されています。 IGBTは特性改善のためにライフタイム制御が行われていますが、この制御はドリフト層に欠陥（ライフタイムキラー）を作成する...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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非晶質（ガラス）二酸化ケイ素（SiO2）のラマン散乱分光法による構造解…
二酸化ケイ素（SiO2）は半導体における絶縁膜・FPDの基板材料・光学材料・医療機器から装身具に至るまで幅広く用いられていますが、非晶質であるガラスとして構造解析を行うことは非常に困難です。ガラス中でSiO2が環状に結合すること...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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コンタクト電極/SiC層の界面の相同定・元素分布評価
市販のSiCパワーMOS FET素子の解析事例をご紹介します。 SiC材料では、SiだけでなくCを含めた系での材料制御が必須となり、従来のSi半導体の製造方法と違いがあります。コンタクト電極とSiC層のオーミック接合形成プロセスにおいて、TEMを用いたEDX/EELS分析および電子回折から、Cを含めた元素分布や結晶相を評価しました。...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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低融点金属のTDS分析
Snは半導体の製造でも使用されるはんだの主原料として用いられています。はんだ中のガスはボイド発生の原因となるため、はんだやその主原料であるSnの内包ガス量を制御することが重要です。TDS分析にてSnを融点を超...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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インピンジャー捕集法による大気中イオン成分の分析が可能です
半導体やその製造プロセス分野では環境中に存在する無機物や有機物を制御することが重要とされています。 MSTではインピンジャー捕集法により室内雰囲気中の成分を回収し、雰囲気中腐食成分の種類や量を分析することが可能です。今回はイオンクロマトグラフィーを用いたインピンジャー捕集-イオンクロマトグラフ法で分析した事例を紹介します。...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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AFM :原子間力顕微鏡法
AFMは微細な探針で試料表面を走査し、ナノスケールの凹凸形状を三次元的に計測する手法です。 金属・半導体・酸化物などの材料評価だけでなく、毛髪やコンタクトレンズなどのソフトマテリアルまで幅広い材料を測定可能です。 本資料では、様々な材質のAFM像をご紹介します。...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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ライフタイム制御サンプルのキャリア濃度分析事例紹介
パワー半導体デバイスでは、ライフタイム制御のために、Si基板内に結晶欠陥を形成することがあります。ライフタイム制御領域の作成に用いられる元素の一つである水素イオンの熱処理条件の違いによるキャリア濃度分布を評価...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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食品や飲料水、土壌・堆肥に含まれる放射性物質の検査サービス
ゲルマニウム半導体検出器による放射能濃度検査をお引き受けいたします。...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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ガラス・水銀からデジタルへ。デジタル表示で一目で確認。モバイル電源（オ…
Pa 圧力単位：kPa 表示分解能：0.1kPa 精度：±0.3％FS ±1dig レコーダ出力：0-1V 通信出力：USB-2.0(Micro USB-B) センサ方式：半導体圧力センサ 電源：AC100～240V(ACアダプダ) ■NMV-104N 被測定ガス体：非腐食性気体 受圧素子：シリコン 圧力サポート：φ11ホースニップル-Rc1/4 BS ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社岡野製作所
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MIL-STD-883Kに規定されている集積回路 衝撃試験を実施致しま…
路（マイクロエレクトロニクスの装置）の試験方法と手順の規定であり、米軍調達品としての一般要求事項、機械的、環境、耐久性試験、電気的試験方法及び品質保証の方法と手順を規定しています。試験集積回路は、半導体部品ならびにモノリシック、マルチチップ、フィルムと複合型超小型回路のようなアイテムも含まれます。 ●弊社ではMIL-STD-883KのMETHOD 2002.5 MECANICAL SHOC...
メーカー・取り扱い企業： 日本ビジネスロジスティクス（JBL）株式会社 藤沢北事業所
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お客様の目的に合わせた形状・面精度到達に向けた、受託開発・加工をご提案…
【受託加工対象素材】 ■各種半導体用基板 （Si、SiC、GaN、GaAs、サファイア、 LiTaO3、LiNbO3、SiN、AlN、SiN、 各種複合材料、etc.） ■太陽電池用基板 ■各種金属基板（Cu、Al、SUS、T...
メーカー・取り扱い企業： ナガセ研磨機材株式会社 本社
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異物の成分分析・不良解析！異物混入の原因を究明しサポート
【保有技術】 ○異物分析、製品・部品等の不良解析(金属・半導体・セラミクス・樹脂 等) ○発生ガス分析 ○におい分析 ○形態観察 ○材質調査、表面分析等の分析 ○材料の物性評価 ○自動車内装材の評価試験 ○燃焼性試験 ○信頼性試験 ○ガラス...
メーカー・取り扱い企業： 湖西テストラボ合同会社
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圧縮空気の清浄度に関わる規格・規定された試験方法を紹介した技術資料
技術資料『圧縮空気の清浄度測定』は、医療・製薬関連、食品等の衛生関連や半導体等の高度技術関連のような清浄度の高い圧縮空気を必要とする用途で活用されている、圧縮空気の清浄度測定について掲載した資料です。 本資料では「圧縮空気の清浄度に関わる規格、その中に規定された試験...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ユニケミー
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無機材料の微小異物を露出し、EPMAで分析した事例などをわかりやすくご…
【適用分野】 ■プラスチック・ゴム ■セラミックス・ゼオライト ■その他無機製品 ■その他有機製品 ■フラットパネルディスプレイ ■電池・半導体材料 ■医薬品・化粧品・農薬 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社東ソー分析センター
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【分析事例】C60,GCIBを用いたアルカリ金属の深さ濃度分布
SiO2膜の不純物の評価
アルカリ金属であるLi,Na,Kは半導体における各種故障原因の要の元素です。これらは測定時に膜中を移動してしまう可動イオンと言われており、正確な分布を得ることが困難とされてきました。 今回、スパッタイオン源にC60（フラーレン）とGC...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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ICP-MS：誘導結合プラズマ質量分析法
ICP-MSを用いたSiウエハ表面の金属汚染評価の目的には、Siウエハ自体の汚染評価以外にも、半導体装置内の汚染評価、Siウエハ暴露による作業環境場の評価などもあり、Siウエハ表面の分析は様々な目的で行われます。ICP-MS分析ではSiウエハ表面の金属汚染量を高感度に取得でき、さらに目的に応じて...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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光半導体はなぜ故障するの？光による故障についてもう少しだけ詳しく説明し…
★★しるとくレポ 知って得するお役立ち情報★★ みなさんは半導体の故障といえばどのような故障を思い浮かべますか？ まず、思い浮かぶのは静電気による破壊でしょうか？ もちろん、光半導体もこの静電気で故障してしまいますが、光半導体は 光が原因でも故障して...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社Wave Technology
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化合物半導体系超格子サンプルを使用した深さ分解能測定の結果を掲載！
例集です。 Q-pole SIMS(アルバックファイ：ADEPT-1010)によって、 Al0.28Ga0.72As/GaAsを50nmずつ分子線エピタキシー(MBE)で成膜した 化合物半導体サンプルを試料として用いて、深さ分解を求めた結果を 掲載しています。 【掲載概要】 ■深さ分解能測定の結果 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター
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SiCデバイスの拡散層構造を可視化できます（拡散層構造の高感度評価）
SNDM (走査型非線形誘電率顕微鏡)では半導体のp/n極性を識別し、拡散層の形状を可視化すること ができます。本手法は、従来から用いられているSCM（走査型静電容量顕微鏡）の機能を包括しており、 SCMでは評価が難しいSiCを代表とする次世代...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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検出下限を1E16n/cm3に下げることが出来ました。SIMSによる分…
半導体材料開発には不純物分析が重要ですが、高感度で分析できる二次イオン 質量分析（SIMS）が適しています。 SIMS(アルバックファイ：ADEPT-1010)によって、シリコンへアルミニウムを イオン注入したサンプルを分析した結果を紹介します。 アルミニウムの質量数はシリコンと隣接しているため Q ポール型 SIMS では 測定が困難ですが、測定条件を最適化することによって検出下限を...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター
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【分析事例】揮発性有機化合物（VOC）P&Tによる微量成分の検出
GC/MS：ガスクロマトグラフィー質量分析法
揮発性有機化合物（VOC）は、半導体や工業製品の洗浄時に使用され、洗浄用水等に極微量で含まれる可能性があります。水中のVOCは、極微量であっても臭気の原因になることや健康被害を引き起こすことが懸念されることから、環境基準値や排水基準...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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金属成分と有機成分を同時に評価可能です
半導体デバイス製造において、歩留まり向上の観点から、ウエハの裏面の清浄度向上に加え、ウエハのベベル部に残留する物質を除去することが求められています。今回、ベベル傾斜面のTOF-SIMS分析を行い、汚染の分布を評価しました（図2）。また、付着物と正常部・汚染源のマススペクトルを比較し、付着物は汚染源の金属（Cr）成分・有機物成分と一致していることがわかりました。 TOF-SIMSにてベベル部（端面と傾斜...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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製造プロセスおける有機汚染の原因や総量を評価できます
ウエハ表面に有機物が吸着することで、ゲート酸化膜の耐圧劣化など様々な問題が発生することが知られています。そのため、半導体デバイスの微細化・高集積化が進むにつれて、無機物だけでなく微量の有機物についても汚染量を把握することが重要になってきています。 ここでは、2種類のウエハケースにSiウエハを保管し、ウエハ表面全体...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能
半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。 高分解能なXPSスペクトルではc(単結晶)-Siとa(アモルファス)-Siが異なったピーク形状で検出されることを利用して、この損傷由来のa-Siをc-Siと分離して定量評価した事例をご紹介します。...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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熱分解GC/MS法により感光剤の構造解析が可能
ポジ型フォトレジストは、半導体デバイス製造時のフォトリソグラフィー材料として広く用いられています。 レジストに使用される素材は露光光源によって大きく異なりますが、g線、i線用のレジストでは一般にベース樹脂としてクレゾールノボ...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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【分析事例】SiC Planer Power MOSのSCM分析
SiC デバイスの拡散層構造を可視化できます
SCMでは半導体のp/n極性を識別し、拡散層の形状を可視化することができます。 本手法はSiデバイスに活用されてきましたが、SiCデバイスにおいてもキャリア濃度が十分高い箇所では評価を行うことができます。 本...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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水銀フリー！U字型真空計の代替えに最適！小型・軽量のデジタル真空計
Pa 圧力単位：kPa 表示分解能：0.1kPa 精度：±0.3％FS ±1dig レコーダ出力：0-1V 通信出力：USB-2.0(Micro USB-B) センサ方式：半導体圧力センサ 電源：AC100～240V(ACアダプダ) ■NMV-104N 被測定ガス体：非腐食性気体 受圧素子：シリコン 圧力サポート：φ11ホースニップル-Rc1/4 BS ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社岡野製作所
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硫酸と塩酸を分別する測定！オプションのビュレットと簡易分注器を増設して…
塩酸と硫酸の混合溶液は、強酸としての作用の他、強い酸化力と溶解力を 持ち、金属、ガラス製品および半導体表面処理液として使用されています。 塩酸および硫酸は、いずれも強酸であることから中和滴定による分別定量は 困難となります。そこで、塩酸と硫酸の混合溶液を、はじめに中和滴定に よって塩酸と...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社HIRANUMA
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硝酸とフッ化水素酸の混合溶液を滴定液に水酸化カリウム標準液、滴定溶媒に…
硝酸とフッ化水素酸の混合溶液は、強酸としての作用、強い酸化力と溶解力 を持ち、金属、ガラス製品および半導体表面処理液として使用されています。 当資料では、硝酸とフッ化水素酸の混合溶液を滴定液に水酸化カリウム （メタノール性）標準液、滴定溶媒にメタノールを用いて滴定した例をご紹介。 メタノ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社HIRANUMA
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塩酸とフッ化水素酸の分別定量–電位差滴定【電位差自動滴定装置】
塩酸とフッ化水素酸の混合溶液中の各成分を電位差滴定で測定した例をご紹介…
塩酸とフッ化水素酸の混合溶液は、強酸としての作用および溶解力を持ち、 金属、ガラス製品および半導体表面処理液として使用されています。 当資料では、塩酸とフッ化水素酸の混合溶液中の各成分を電位差滴定で 測定した例をご紹介いたします。 pH測定用ガラス電極を用いた中和滴定により塩酸と...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社HIRANUMA
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塩酸とフッ化水素酸の分別定量–電導度滴定【電位差自動滴定装置】
塩酸とフッ化水素酸の混合溶液中の各成分を電導度滴定で測定した例をご紹介…
塩酸とフッ化水素酸の混合溶液は、強酸としての作用および溶解力を 持ち、金属、ガラス製品および半導体表面処理液として使用されています。 当資料では、塩酸とフッ化水素酸の混合溶液中の各成分を電導度滴定で 測定した例をご紹介いたします。 電導度滴定により試料溶液の電導度を検出しながら、...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社HIRANUMA
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水酸化ナトリウム滴定液による中和滴定によって逐次滴定して分別定量した例…
硝酸（強酸）と酢酸（有機酸）の混合溶液は、強酸としての作用の他、 強い酸化力および溶解力を持ち、金属、ガラス製品および半導体の 表面処理液として使用されています。 当資料では、硝酸と酢酸の混合溶液を、水酸化ナトリウム滴定液による 中和滴定によって逐次滴定して分別定量した例をご紹介いたします。 【掲載内容...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社HIRANUMA
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測定手順や測定結果など！代表的な方法であるホルムアルデヒド添加法のご紹…
酢酸と酢酸アンモニウムの混合溶液は、半導体製造工程における 洗浄液として使用されます。 弱酸と弱酸の塩の分別定量法には、いくつかの定量方法があります。 当資料では、代表的な方法であるホルムアルデヒド添加法を紹介します。 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社HIRANUMA
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測定の概要や摘要など！硝酸とリン酸の混合溶液中の各成分を中和により測定…
各種酸の混合溶液は、強酸としての作用および溶解力を持ち、 金属、ガラス製品および半導体表面処理液として使用されています。 当資料では、硝酸とリン酸の混合溶液中の各成分を中和により、 測定した例をご紹介いたします。 【掲載内容】 ■測定の概要 ■装置構成および試薬 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社HIRANUMA
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