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３次元・大型・低温処理が可能！独自開発技術採用プラズマイオン注入成膜装…
「プラズマイオン注入成膜装置」は、独自開発技術を採用しており、３次元・大型・低温処理が可能なDLC成膜装置です。 栗田製作所独自開発装置で特許取得済み（特許第3555928号）です。 プラズマ生成用のバルスRF電源、イオ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です…
・真空装置部の大型が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります ・完全自動運転のためコスト低減が可能です ・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です ・自転公転機構やヒーターが必要ないため真空装置内のパーティクルの発生を最小限に抑えることが可能です...・栗田製作所新開発のプラズマ発生方式により三次元形状物でも全方位に均一にDLC処理が可...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
プラズマイオン注入・成膜装置（Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D）とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…
『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…
連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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他に類を見ない三次元成膜技術で、不可能を現実にします。
PEKURIS COATは、株式会社栗田製作所独自開発のプラズマイオン注入成膜装置で成膜します。真空中にガスを導入し、処理基材自身にパルスRFと高圧パルスを印加することにより、ワーク（基材）に沿った形でプラズマの生成が可能です。またパルス電源を利用しているため、低温40℃～での...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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燃料電池の耐久性向上などに貢献。水電解装置でも採用実績あり。
当社では、燃料電池の金属バイポーラプレート（セパレータ）用の表面処理に適した生産能力の高い『連続成膜装置』を設計・開発・製造し、受託加工コーティングサービスを提供しております。 出力や利用条件などに合わせたコーティングサービスや、 ニーズに合わせた最適な表面処理の開発も行っています。 ...
メーカー・取り扱い企業： HEF DURFERRIT JAPAN株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…
連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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