成膜装置 | イプロス医薬食品技術

３次元・大型・低温処理が可能！独自開発技術採用プラズマイオン注入成膜装…

「プラズマイオン注入成膜装置」は、独自開発技術を採用しており、３次元・大型・低温処理が可能なDLC成膜装置です。栗田製作所独自開発装置で特許取得済み（特許第3555928号）です。プラズマ生成用のバルスRF電源、イオ...

今なら無償デモ中！各種プラズマ装置のレンタルや受託処理を承ります(7日…

表面改質(洗浄・表面改質・親水化・接着強化)やエッチング・製膜に優れた各種プラズマ装置のレンタル・受託処理・研究・開発など様々なニーズにお応えしております。プラズマ表面処理は、素材の表面に独自の個性をもたせ、製品の高機能化、高付加価値化を図る次世代表面処理技術として、現在、幅広い分野(エレクトロ二クス～医療・バイオなど)の応用技術として注目されています。魁半導体では創業以来の知見を...

メーカー・取り扱い企業：株式会社魁半導体

ロールtoロール連続成膜装置

樹脂フイルムへのバリア性プラズマ成膜などに好適！技術資料無料進呈いたし…

『ロールtoロール連続成膜装置』は、中間層を必要としないプラズマイオン注入成膜法により、各種フィルム素材に機能性成膜が可能な装置です。独自のICPプラズマによる高速成膜機能フイルムの製造が可能。樹脂フイルム...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イトー

太陽電池の成膜をインクジェットプロセスで開発『微小液滴吐出装置』

pL、nLオーダーの溶液を狙った位置に吐出可能！デッドボリュームの…

「InkjetLabo」は、シンプル＆多機能な装置です。自動ステージを標準装備することで、溶液を使ったライン描画、ドット配置、またBMP画像を使用した複雑な描画に対応できます。微量な溶液でも液導入ができ、デッドボリュームの少ない実験／評価が可能です。また、薄膜太陽電池の研究開発において成膜工程をマスクレスで行えます。スピンコーターの代替えにより、デッドボリューム...

メーカー・取り扱い企業：クラスターテクノロジー株式会社本社

ポリパラキシレン蒸着成膜装置

ポリパラキシレン成膜に特化した装置です。メーカは35年以上、ヨーロッパ…

本製品は、密着性よくパリレンを成膜できる装置です。研究やR&Dだけでなく、量産にも対応できる装置を販売しております。また、装置の販売実績は50台を超えており、生産ラインで既に使用されております。本装置の特徴は、次の通りです。・装置クリーニング及びメンテナンスが、容易です。・基材との密着性を向上させる為の前処理がin-situで処理可能です。・装置に付帯するPLCによりプロセスが...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マツボー

光学薄膜・光学フィルター受託成膜加工：設計は初回無料で行います！

500社を超える実績、豊富な成膜加工ラインナップ。創業から100年、光…

安達新産業は、単に成膜を実施するだけではございません。お客様のご要望の仕様に応じ、薄膜の設計から成膜プロセス・製品形状加工までトータルなご提案に対応可能な企業を目指しております。このようなお困りごとは有りませんか？・光源や受光素子の性能で、特性を変化させることは可能ですか？・角度で特性が変化する場合、シミュレーション可能でしょうか？・まずは少量の試作で、製品特性を見たいです。 ...

メーカー・取り扱い企業：安達新産業株式会社本社

各種成膜・アニール装置

ニーズに合わせたラインアップ！成膜装置や、ランプ加熱によるアニール装置

大村技研では、お客様のニーズに合わせて、成膜装置やランプ加熱によるアニール装置を設計・製作します。縦型LP-CVD装置、縦型アニール装置、PE-CVD装置、 MO-CVD装置をラインアップしています。【特長】 ■ニーズに...

メーカー・取り扱い企業：大村技研株式会社

成膜装置『ロールコーター』

ドラムレスのフラットWeb搬送と処理表面の成膜前非接触搬送を実現！成膜…

『ロールコーター』は、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理をする装置です。ドラムレスのフラットWeb搬送と処理表面の成膜前非接触搬送を可能にし、成膜は、プラズマCDV法、スパッタリング法、真空蒸着法等のプロセスを組み合わせたマルチプロセスが可能です。また、素材ロールの脱ガス対策にTMP＋CRT排気システムの採用しました。【特長】 ■ドラムレス...

メーカー・取り扱い企業：株式会社C&Vテクニクス

プラズマイオン注入成膜装置

日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です…

・真空装置部の大型が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります・完全自動運転のためコスト低減が可能です・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です・自転公転機構やヒーターが必要ないため真空装置内のパーティクルの発生を最小限に抑えることが可能です...・栗田製作所新開発のプラズマ発生方式により三次元形状物でも全方位に均一にDLC処理が可...

メーカー・取り扱い企業：株式会社栗田製作所本社・京都事業部

薄膜形成や、成膜プロセスの各種問題を解決！『吐出装置』

デッドボリュームの少ない成膜が可能！スピンコーターの代替に好適！【…

「InkjetLabo」は、シンプル＆多機能なインクジェット式吐出装置です。この装置により、成膜プロセスで発生する以下の各種問題点が解決出来ます。　１．デッドボリュームを減らしたい！　２．コーヒーリング現象を回避したい！　３．塗布基材の形状が平面でなかったり、立体構造への塗布がしたい！　４．基板エッジに液だまり発生させたくない！　５．吐出する溶液に熱を加えたくない！ ...

メーカー・取り扱い企業：クラスターテクノロジー株式会社本社

マイクロ波ダイヤモンド成膜装置『MDD-2016』

安定な高密度プラズマを発生させ、高品質ダイヤモンドを高速合成するマイ…

『MDD-2016』は、高出力（最大5kW）のマイクロ波電源および自動整合器（4Eチューナ）により、安定な高密度プラズマを発生させ、高品質ダイヤモンドを高速合成できる装置です。独自のプラズマ制御機能により、プラズマ点灯状態で基板上のプラズマ分布を制御できます。マイクロ波電源はマグネトロン発振（連続波、パルス波、高安定スペクトル）およびソリッドステート発振など、当社電源ラインアップからお選び頂け...

メーカー・取り扱い企業：日本高周波株式会社

成膜・熱処理装置ラインナップ

半導体などの工程加工に適した各種成膜、酸化膜形成、アニール処理に適した…

SiCのアニール前処理として最適なカーボン成膜をPBIIで、アニール処理をRTAで、アニール前後処理を弊社で行うことができます。...成膜・PBII（Plasma Based Ion Implantation) 　カーボン成膜が可能・スパッタ　電極膜の成膜が可能熱処理・RTA（Rapid thermal annealing）　縦型高周波誘導加熱方式により、～1800度...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イオンテクノセンター

卓上型サーマル式 / プラズマ支援原子層堆積（ALD）装置

Arradiance社製卓上型ALD装置　卓上型ながらプラズマユニット…

テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。 4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド最...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイチ・ティー・エル HTL（エイチティーエル）

成膜受託サービス

液相・気相コーティングに関わらず多様な工法でお客様のニーズを全方位でカ…

『連続プロセス』で工法の違うプロセスもワンストップで対応可能。生産工程を飛躍的に向上させます！多様なプロセス・膜種・膜厚が可能 ■ドライ　・スパッタ　・蒸着　・CVD 　・ALD 　・DLC ■ウェット　・ディップ　・スプレー　・印刷、転写　・ダイコーター　・ディスペンサー装置開発だけでなく、プロセス開発・装置調整、最適な冶具提案、最適な...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クリエイティブコーティングス

スパッタリング　薄膜加工　成膜加工（薄膜成膜受託加工）

スパッタリングは低温でもすぐれた密着が得られます。ローコスト・短納期に…

スパッタリングは乾式メッキ法に分類され、コーティングする対象物を液体や高温気体にさらす事なくメッキ処理が出来ます。それにより様々な基盤材料(樹脂・ガラス・セラミック・その他)の板物・成型品に、例えば電極・シールド・マスキングとして使用されています。【特徴】・異なる金属を同一ターゲットに「合金」として加工し成膜する事が可能・クリーンな表面処理加工 ※詳しくは、お問い合わせ下さい...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ビースパッタ

プラズマイオン注入成膜装置　PBII-R1000

生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。

プラズマイオン注入・成膜装置（Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D）とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3...

メーカー・取り扱い企業：株式会社栗田製作所本社・京都事業部

実験・研究開発用途受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』

ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会いによるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...

メーカー・取り扱い企業：ワッティー株式会社

アネスト岩田　真空機器

低振動・低騒音・高効率。クリーンな真空はアネスト岩田にお任せください。

関連機器　など【特長】 ■真空領域：低真空～高真空 ■低騒音・低振動 ■軽量・コンパクト ■大容量 ■水蒸気吸引 ■RoHS対応　　など【主な用途】 ■分析装置 ■成膜装置 ■放射光施設 ■ガス循環・回収・置換 ■排気装置 ■乾燥・解凍　　などお客様に最適な機種を選定しますので、お気軽にご相談ください！ ※詳しくはPDFをダウンロードしていただ...

メーカー・取り扱い企業：アネスト岩田株式会社

DLC（ダイヤモンド状炭素）成膜装置

医療用途・光学部品に！イニシャル、ランニングコスト低減ができるプラズマ…

『ダイヤモンドライクカーボンの成膜装置』は、熱陰極PIG(ペニングイオンゲージ放電形式）プラズマCVD装置です。低温かつ高真空での処理を可能とし､硬度と平滑性に優れた DLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜の形成を実現。...

メーカー・取り扱い企業：東製株式会社

酸化シリコン成膜CVD装置

3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。また、3インチウェハ対応となっております。【特長】 ■酸化シリコンを成膜 ■コンパクトな設計となっており省スペース化を実現 ■3インチウェハ対応 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

多層膜成膜装置 (ポリパラキシレン＋ALD）

ポリパラキシレン（パリレン）とALD(原子層堆積法）による無機酸化物層…

パリレンは生体適合性を持つ高機能樹脂ですが、無機酸化物と比較するとガスバリア性が低いという欠点があります。そこで、パリレンと酸化物をサンドイッチのように交互に成膜することで、バリア性の高い、高機能膜を生成することが可能になり、製品の小型化や薄膜が求められる医療用アプリケーションに最適です。パリレンとALDは同一チャンバ(In-situ)で真空を破ることなく成膜するので、パーティクルの心配はあり...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マツボー

低温バレル型ALD成膜装置　CVA-B series

低温ALD装置とバレル機構の融合

自社開発のバレル機構による均一撹拌とバラつきのない膜厚・膜質を実現・粉体材料や極小部品表面に均一に高品質な成膜が可能・平面ではないワーク形状や他の方法では成膜できなかった材料などにも技術応用可能 ...【コーティング活用例】　磁性粉体（サマリウムコバルト系、鉄ネオジム系、フェライト等）への保護膜形成　　・保磁力、分散性の向上　　・参加劣化防止　　・帯電防止　全個体...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クリエイティブコーティングス

研究開発用装置　成膜装置･グローブボックス

有機ELデバイス開発などに適した研究開発用装置を紹介します。

当社では、大気にさらすことなく連続処理が可能な『研究開発用装置　成膜装置･グローブボックス』を設計・製造・販売しております GBOX内部で試料基板を搬送BOXに収納・密閉することで不活性雰囲気を保ち、基板を大気に曝す事無く蒸着装置に装着・処理しGBOXに戻すことが...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイエルエステクノロジー

【事例紹介】成膜装置のプレヒート

統と豊富な実績を持つウシオ社の光加熱用光源による、成膜装置のプレヒートの事例紹介です。真空環境下においても非接触・高速昇温性を持ったハロゲンランプヒータを使用することにより半導体・FPD・太陽電池などの成膜工程においてタクトタイム短縮...

メーカー・取り扱い企業：ウシオ電機株式会社

スプレー大気圧コーティング装置　CMS series

薄膜／厚膜の両方の成膜に対応したスプレー常圧成膜装置

成膜形状に合わせた動作と塗布ノズルヘッドを組み合わせることで自由自在な成膜が可能。ヘッド動作プログラムを新設計・簡単・シンプルにノズル動作位置を設定可能・ノズル移動シミュレーション表示が可能塗布ヘッドは用途に合わせて選択可能・スプレー方式、ディスペンサ方式、ディップコート方式等、プロセスに合わせたヘッドを準備装置開発だけでなく、プロセス開発・装置調整、最適な冶具...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クリエイティブコーティングス

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

クラスター真空成膜・評価装置紹介

測定・研究したい要素をそのまま！お客様のニーズに合致させることが可能な…

『クラスター真空成膜システム』は、試料自動搬送システム、サンプル交換室、サンプルストッカー室、スパッタ室に加え誘電率・磁性測定、ホール測定装置などの分析機を備えた評価室から構成されます。また、中央の試料自動搬送チャンバーは、各成膜室ならびに分析室と接続。試料を真空中でロボット搬送し試料作製から評価までを自動で行います。尚、すべてのチャンバーは高真空環境で接続させることも...

メーカー・取り扱い企業：株式会社パスカル

電源装置『アーク抑制型HF-HiPIMS用パルス電源』

【限定5社デモ機受付中】アーク異常放電を抑制し成膜不良を激減！平均電力…

スパッタリングの最大の課題であるアーク異常放電を抑制する機能とHiPIMSの最大の課題である成膜レートを向上させる機能(特許取得済)を備えたHIPIMS用パルス電源です。弊社独自のHF(High Frequency)モードはHiPIMSの波形の後段にHFパルスを入れることでターゲットのチャージアップをキャンセルし、アークレスな成膜を実現！アーク異常放電を起こさないことにより平均電力をアップ...

メーカー・取り扱い企業：東京電子株式会社

成膜技術『真空蒸着』

真空蒸着技術の高い信頼性とそこから生まれる光学製品の多様性

真空蒸着とは成膜技術の一つで、高真空中で蒸着材料を加熱し気化させ、気体分子となった蒸着材料が基板に衝突、付着して蒸着薄膜が形成される技術です。沸騰して蒸発する水蒸気の上に板を持ってきた時に蒸発した水が付着するのと同じ原理です。誘電体、金属等の蒸着物質を、屈折率・厚み。層数等の組み合わせを変えて成膜し、光（紫外光・可視光・赤外光）を透過・反射・吸収させることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エツミ光学大野工場

『ロールtoロール (Roll to Roll) 成膜』

太陽電池、5Gアンテナなど、フレキシブルデバイスの製造に『ロールtoロ…

■概要樹脂フィルムや金属箔などの大量生産に適し、ロール状に巻いた材料に成膜できます。 4µmの極薄の対応実績があります。お客さまの目的用途に応じた仕様決定など、開発品のための機能性薄膜設計コンサルも承ります。わたしたちが長年培った『透明導電膜・ITO膜』の技術と知見を、製品づくりにぜひご活用ください。...■特長・強み・多様な成膜材料の豊富な経験実績　-金属、金属酸化物、誘電...

メーカー・取り扱い企業：ジオマテック株式会社

スパッタ装置 QKG-Sputtering

フルオートで大気に曝されることなく成膜完了！〜サンプル測定実施中！…

従来のスパッタ装置では困難であった“1バッジ内での複数材料の成膜”をワークマスク採用で可能にし、フルオートモードで試料が大気に曝されることなく成膜完了します。 ○省スペースで作業スペースにメリット ○成膜の再現性が上昇するメリット ○工数削減、エラー減少、気分上昇メリット ○ワンボタンで成膜までフルオート→作業効率メリット ○１インチカソードで材料費を削減メリットスパッタを高精度...

メーカー・取り扱い企業：九州計測器株式会社

マグネトロンスパッタ装置カーボンコーター

誰でも使える簡単操作の卓上型コーティング装置

タッチパネル操作のフルオート多目的成膜装置です。インサートを交換することでスパッタリング、カーボン蒸着（ロッド・ファイバー）、グロー放電と多目的に使用可能なハイブリッドモデルもございます。多くの研究室で導入されている多目的成膜装置...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アド・サイエンス

低温ALD装置　CVA series

ALDでは難しいと言われている低温での高品質な成膜が可能！

緻密で均質、かつ均一の厚みの膜が形成可能　・ほとんどの金属酸化膜に対応可能　・どのような基板（材質、平坦性、形状等々）でも密着性良く成膜可能　・用途に応じた膜厚の制御が可能　・室温で成膜可能 PETボトルコーティング活用例　・アルコール飲料（軽量化・ロングライフ化）　・医療・化粧品（容器の低コスト化、意匠性・透明性、酸アルカリ封入）　・燃料（軽量小型燃料電池、フレ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クリエイティブコーティングス

マイクロ静電塗布装置

FS式マイクロ静電バルブを配備した、高微粒子で均一塗布をする塗布装置

静電塗布バルブは低粘度材料を薄膜塗膜形成する用途と中高粘度塗布材料を数十μｍの成膜形成用との、２方式の静電マイクロスプレー法を用意しております。オングストローム単位からの成膜が可能な方法として静電印加マイクロスプレー法があります。これは液体微粒子の発生させるFSマイクロスプレーガンに、コロナ帯電方式で，高電圧発生装置より５～３0kV の高電圧をガン先端のニードルに印加されると同時に、このニー...

メーカー・取り扱い企業： Shimada Appli合同会社コーティング開発部

ウシオの光で出来ること『加熱/成膜』

伝統と豊富な実績を持つウシオ社の光加熱用光源の実用例（加熱/成膜）のご紹介です【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○半導体・FPD・太陽電池などの製造プロセスにおける　金属膜、絶縁膜の形成に用いられる　CVDやスパッタリング装置の熱源として最適 ○さらに成膜前の、水分除去や予備加熱にハロゲンランプヒータを　用いることで、スループット向上と高品質な膜形成を...

メーカー・取り扱い企業：ウシオ電機株式会社

コーティング装置『IK-1000』

金属や部品の量産から全長500mm迄の大型品の処理に適した装置！

『IK-1000』は、金属や部品の量産から全長500mm迄の大型品の処理に適した装置です。高真空雰囲気中において、ターゲット（成膜材料）を陰極、アノード（陽極）との間で真空アーク放電を発生させ、成膜材料を蒸発、イオン化し、基材に負バイアス電圧を印加することで、プラズマ中にイオンを引き付けて成膜を行います。また、テストピースの試作など、研究開発用途に適した「IK-50...

メーカー・取り扱い企業：株式会社インターフェイス

イオンビームスパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。【装置特長】・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 　高真空成膜可能・コンタミネーションが少ない・無加熱成膜可能・高密度膜・反応性成膜可能・イオンビームアシスト追加可能・膜厚等の制御性良好...●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。【装置仕様概略】　・ス...

メーカー・取り扱い企業：アールエムテック株式会社

ロードロック式プラズマALD装置『AD-230LP』

有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜しま…

『AD-230LP』は、原子レベルの膜厚制御が可能なALD装置です。有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜。ロードロック室を有し、反応室を大気開放することがないため、再現性に優れた成膜が可能です。また、容量結合プラズマ(CCP)方式を採用することで、反応室容積を最小化しており、ガスのパージ時間を短縮し、1サイクルを高速化します。【特長...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

低温高周波励起DLC 成膜装置　CVC series

DLC(Diamond-like carbon）コーティング

高周波と直流負パルスを同時印加・高周波プラズマは反応容器外から供給・直流電圧はアークに直結コンパクトでシンプルデザイン・加熱源をもたない・ワークの設置方向に制限なしグラファイトからDLC まで膜質を連続制御・高周波パワーで反応制御・直流電圧値で密着性制御...【アプリケーション例】・機械的特性　耐摩耗：切削工具、摺動部品　低摩耗：真空部品、エンジ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クリエイティブコーティングス

【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適蒸着・スパッタ・アニール等全て…

OLED（有機EL）, OPV（有機薄膜太陽電池）, OTFT（有機薄膜太陽電池）, 又, グラフェン, TMD（遷移金属ダイカルコゲナイド）などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省ス...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

クリエイティブコーティングス『気相技術』

ワーク材質や膜種、膜厚から、弊社がご提案する技術や加工例をご紹介！

VA series 　ALDでは難しいと言われている低温での高品質な成膜が可能 ■バレル型ALDロボットCVA-B series 　低温ALD装置とバレル機構の融合 ■低温高周波励起DLC成膜装置CVC series 　低温で、グラファイトからDLCまで密着性の良い成膜が可能 ■バブリングCVDロボットCVB series 　液体→気体　低温で、低コスト＆高品質成膜が可能 ■I...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クリエイティブコーティングス

ホットミラー：熱の原因となる近赤外光を反射するミラーです。

熱の原因となる近赤外光を反射するミラーです。温度上昇が懸念される投影機…

１）こんなことにお困りではありませんか？ ■光源から発生する近赤外の光で、温度が上昇するのを防ぎたい。 ■投影機や、照明装置などが熱くなってしまう。 ■可視光は透過させ、近赤外（NIR)は反射させたいが可能でしょうか？ ■ミラーの波長帯はカスタマイズ可能でしょうか？２）ホットミラーとはホットミラーは、主に赤外放射により引き起こされる温度上昇が懸念される投影機や、照明装置などへ使...

メーカー・取り扱い企業：安達新産業株式会社本社

ナノ粒子生成装置「レーザーアブレーションシステム」(LA)

ターゲットにパルスレーザーを照射してナノ粒子を生成させる技術です。基板…

固体ターゲットにパルスレーザーを照射して数nmから数10nmのナノ粒子を生成させる技術です。減圧雰囲気中で基板への成膜、また流動化している粒子に対してのコーティングも可能です。また、任意の溶媒中でナノ粒子の分散したサスペンションを調製することも可能です。金属やセラミックス材料など無機物はもちろんのこと、医薬品、高分子などの有機化合物もレーザー波長や出力の制御により、処理可能です。...【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社奈良機械製作所

高周波レーザーCVD装置

簡単に試料セットする事が可能！外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ（自動回転機構付き）があり、外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。簡単に試料セットする事ができます。オプションでチャンバー上部にガス供給系（最大5系統）を設置する事も可能です。【特長】 ■外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

多層膜スパッタリング装置『S600』

ヒーターステージ(1000℃)搭載！開発工程～量産工程まで様々な用途へ…

『S600』は、多層・積層成膜プロセスの改善により電子部品の品質強化と生産性向上に貢献する多層膜スパッタリング装置です。高品質・高精度な成膜によりデバイス品質の向上。高スループット、生産歩留り向上、材料利用効率の最適化によりコスト競争力をアップします。多様な成膜条件に対応したオプションにより多品種少量生産、柔軟な生産計画へ対応可能です。【特長】 ■最大5基のカ...

メーカー・取り扱い企業：パナソニックプロダクションエンジニアリング株式会社