成膜装置 | イプロス医薬食品技術

Arradiance社製卓上型ALD装置　卓上型ながらプラズマユニット…

テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。 4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド最...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイチ・ティー・エル HTL（エイチティーエル）

酸化シリコン成膜CVD装置

3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。また、3インチウェハ対応となっております。【特長】 ■酸化シリコンを成膜 ■コンパクトな設計となっており省スペース化を実現 ■3インチウェハ対応 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

ロードロック式プラズマALD装置『AD-230LP』

有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜しま…

『AD-230LP』は、原子レベルの膜厚制御が可能なALD装置です。有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜。ロードロック室を有し、反応室を大気開放することがないため、再現性に優れた成膜が可能です。また、容量結合プラズマ(CCP)方式を採用することで、反応室容積を最小化しており、ガスのパージ時間を短縮し、1サイクルを高速化します。【特長...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適蒸着・スパッタ・アニール等全て…

OLED（有機EL）, OPV（有機薄膜太陽電池）, OTFT（有機薄膜太陽電池）, 又, グラフェン, TMD（遷移金属ダイカルコゲナイド）などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省ス...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

ナノ粒子生成装置「レーザーアブレーションシステム」(LA)

ターゲットにパルスレーザーを照射してナノ粒子を生成させる技術です。基板…

固体ターゲットにパルスレーザーを照射して数nmから数10nmのナノ粒子を生成させる技術です。減圧雰囲気中で基板への成膜、また流動化している粒子に対してのコーティングも可能です。また、任意の溶媒中でナノ粒子の分散したサスペンションを調製することも可能です。金属やセラミックス材料など無機物はもちろんのこと、医薬品、高分子などの有機化合物もレーザー波長や出力の制御により、処理可能です。...【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社奈良機械製作所

高周波レーザーCVD装置

簡単に試料セットする事が可能！外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ（自動回転機構付き）があり、外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。簡単に試料セットする事ができます。オプションでチャンバー上部にガス供給系（最大5系統）を設置する事も可能です。【特長】 ■外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

プラズマCVD装置『PD-270STLC／PD-2201LC』

引張り～圧縮の応力制御が可能！スペースに合わせて柔軟に設置できます

サムコ株式会社では、プラズマCVD装置である『PD-270STLC／PD-2201LC』を取り扱っております。「PD-270STLC」は、上部、中部、底部とカバレッジ性良く成膜が可能。また「PD-2201LC」は、トレイ搬送による小径ウエハの複数枚同時成膜から、ウエハ枚葉処理による高均一な成膜まで、お客様の要望に応じて幅広く対応できます。【特長】 <PD-27...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

交互積層法：ウエットプロセスでの反射防止膜

真空ドライプロセスよりコストメリットの優れたウエットプロセスでの反射防…

常温・常圧でコート可能なウエットプロセス「交互積層法」での反射防止成膜を是非ご検討下さい。反射防止成膜プロセスの主流である真空蒸着などのドライプロセスは、真空条件を必要とするためコスト面での負担が大きいプロセスです。一方、ウエットプロセスの「交互積層法」では、常温・常圧下で2種類の溶液（カチオン・アニオン）に基材を交互に浸漬させて積層する手法のため真空条件を必要としない手法です。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エコートプレシジョン

3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

低圧条件のガス流れの解析ができる希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

【半導体向け】解析シミュレーションソフト　※カタログ進呈

工数・コスト削減に！薄膜生成、スパッタリング、プラズマエッチングなどの…

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションで活躍中です。「新商品開発をしたい」「製品改善時に実機(装置)を作って検証したい」「事前検証,装置との比較検証をしたい」などでお困りの方に。また、自社開発製品のため、導入後も手厚くサポートいたします。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

アルミ増反射ミラー：光学センシングに広く活用できる反射率を実現！

反射性能とコストを兼ね備えたミラーをご提供します。誘電体多層膜を差異…

こんなことにお困りではありませんか？ ■通常のアルミミラーより反射率が高いミラーがほしい。 ■耐久性に優れたミラーが欲しいけど、誘電体で設計可能ですか？ ■入射角の幅があるので、考慮できますか？ ■形状が特殊だけど、部品として出荷可能でしょうか？安達新産業株式会社製アルミ増反射ミラーは、誘電体を積層し制御する事で、反射する際の光量の損失が少なく、環境耐久性に優れた性能を実現できます...

メーカー・取り扱い企業：安達新産業株式会社本社

【事例】『DSMC-Neutrals』真空排気シミュレーション

真空排気シミュレーションなど低圧条件のガス流れの解析ができる希…

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。グローブ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

ディップコーター：FD200C2　～小ロッド生産向け装置～

実験機として活用したディップコーターへ塗料の循環ユニットと空調設備を追…

　実験を終え次のステージへ進むと休眠しがちな実験機に拡張機能を持たせることでお客様へ提案できるサンプル品の作成や小ロッドの生産に対応が可能な設備に変身出来ます。　ディップコーティングなどの塗装実験機で成膜した製品は、往々にして塗工膜外観の乱れからお客様へ提案するサンプル品や実製品へ転用できるケースが少ないことが現実です。　その外観乱れの主な原因であるコンタミを塗工システム内から低減すること...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エコートプレシジョン

ディップコーター：DC300S2～昇降・傾斜2軸タイプ実験装置～

複雑形状なワークに対して昇降・傾斜機能を用いることで均一な塗工膜の実現…

垂直姿勢の引上げでは液ダマリが起こりやすい複雑形状のワークに対して、昇降中（1軸側：X）に液の流れやすい角度にワークを傾斜させる（2軸側：Y）ことで、液ダマリを防ぎ均一な塗工膜に近づけることが可能な装置です。 ※引上げ後の姿勢により液ダレを起こす高粘度の液には、傾斜機能を利用しワーク姿勢を変えることで液ダレを防ぐ効果も期待できます。オプションとして、更に1軸追加し傾斜に回転機能を加えるこ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エコートプレシジョン

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した実験用高真空小型制膜装置です。放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガスノズルを備えます。また、対応基板は最大φ1インチまで処理が可能です。【特長】 ■1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載 ■放電用にマッチングユニット付きの...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■O2 x 1 Ar x 4系統　MFC仕様 ■φ300 x ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

コンパクトレーザーMBE装置『PAC-LMBE』

扱いやすいデザインで各種成膜条件の制御が容易！6種類のターゲットが使用…

『PAC-LMBE』は、拡張性の高い超高真空レーザーMBE（PLD）システムです。基板加熱ユニットとして、赤外線ランプ加熱と半導体レーザー加熱のいずれかを選択可能。6種類のターゲットが使用できます。また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を簡単交換いただけます。【特長】 ■拡張性が高い ■到達真空度：6.7×10^-7Pa（5×10^-9To...

メーカー・取り扱い企業：株式会社パスカル

多種金属対応！業界最小クラスの超コンパクトコーターです。

Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…

「SC-701Mk II ADVANCE」は、Ni、Cr、W、Ti、Al等、多種金属対応のハイスペックコンパクトコーターです。 DCスパッタのカテゴリーの内でシリーズ最小の超コンパクトモデルです。各種金属の薄膜作製を、コンパクトで使いやすい装置で手軽に行なえます。【特徴】 ○真空計を装備し、成膜条件の再現性を確保 ○スモール、コンパクト＆ハイスペック ○手動式シャッター標準装備...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社

イオンアシスト蒸着用TELEMARKイオンソースシリーズ

イオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供します

TELEMARK製のイオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供いたします。イオンアシスト蒸着（IAD）技術は余分な基板加熱なしに高密度で安定な成膜可能なプロセスです。TELEMARKのグリッドレスイオンソースシステムは独自のデザインのイオン源により、ガラス、プラスチック、金属の様々な基板で安定なイオンアシスト蒸着を可能にしました。...TELEMARK製イオンソースシリーズは、 1. 軽量コン...

メーカー・取り扱い企業： VISTA株式会社

粒子設計・表面改質「ハイブリダイゼーションシステム」(NHS)

乾式で微粒子の表面改質・複合化を短時間で行う装置です。新素材の創製や大…

高速気流中に原料を分散させながら、衝撃力を主体とした力を用いて乾式で微粒子の表面を微粒子で表面改質・複合化する技術です。粒子の表面改質や複合化を行うことにより、従来にはない新規材料の創製や大幅な性能向上をもたらすことが可能です。核となる粒子（母粒子）表面への微粒子（子粒子）の固定化や成膜化を3分程度と極めて短時間で行います。原材料の組み合わせによって非常に幅広い分野で活躍中です。また、不定形粒子の...

メーカー・取り扱い企業：株式会社奈良機械製作所

ICFコーティング（高機能性DLC）

理化学器具・研究器具へのICFコーティングを承ります。「1点物の試…

DLC （Diamond‐Like Carbon）はその名の通り、「ダイヤモンドのようなカーボン」で非常に硬く、平滑な表面で摩擦係数が低いうえに、様々な特性を持たせることが出来るようになりました。トッケンのICFコーティング（DLCに様々な機能を付加したもの）は、抗菌性、抗血栓、低溶血性、耐腐食性、耐薬品性、耐体液性などに非常に優れ、科学的に不活性で安定しており、生物に与える影響がなく、環境に...

メーカー・取り扱い企業：株式会社トッケン

半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト

ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。お客様のニーズに合わせた対応も可能です。【ラインナップ】《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》 ■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応 ■装置内全体のガス流れの...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

真空排気シミュレーションソフト『DSMC-Neutrals』

真空排気シミュレーションなど低圧条件のガス流れの解析ができる希…

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

粒子法3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

低圧条件のガス流れの解析ができる希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。グローブ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

真空装置向け希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』

低圧条件のガス流れの解析ができる希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。グローブ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社