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22件 - メーカー・取り扱い企業
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３次元・大型・低温処理が可能！独自開発技術採用プラズマイオン注入成膜装…
「プラズマイオン注入成膜装置」は、独自開発技術を採用しており、３次元・大型・低温処理が可能なDLC成膜装置です。 栗田製作所独自開発装置で特許取得済み（特許第3555928号）です。 プラズマ生成用のバルスRF電源、イオ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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ポリパラキシレン成膜に特化した装置です。メーカは35年以上、ヨーロッパ…
本製品は、密着性よくパリレンを成膜できる装置です。研究やR&Dだけでなく、量産にも対応できる装置を販売しております。また、装置の販売実績は50台を超えており、生産ラインで既に使用されております。 本装置の特徴は、次の通りです。 ・装置クリーニング及びメンテナンスが、容易です。 ・基材との密着性を向上させる為の前処理がin-situで処理可能です。 ・装置に付帯するPLCによりプロセスが...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー
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日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です…
・真空装置部の大型が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります ・完全自動運転のためコスト低減が可能です ・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です ・自転公転機構やヒーターが必要ないため真空装置内のパーティクルの発生を最小限に抑えることが可能です...・栗田製作所新開発のプラズマ発生方式により三次元形状物でも全方位に均一にDLC処理が可...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
プラズマイオン注入・成膜装置（Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D）とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…
お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・イオンビームアシスト追加可能 ・膜厚等の制御性良好...●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 【装置仕様概略】 ・ス...
メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/P...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…
『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…
連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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他に類を見ない三次元成膜技術で、不可能を現実にします。
PEKURIS COATは、株式会社栗田製作所独自開発のプラズマイオン注入成膜装置で成膜します。真空中にガスを導入し、処理基材自身にパルスRFと高圧パルスを印加することにより、ワーク（基材）に沿った形でプラズマの生成が可能です。またパルス電源を利用しているため、低温40℃～での...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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吐出精度１％以下！成膜プロセスを効率化する卓上型スプレーコーター！デモ…
『API-40RD』はタッチパネル、燃料電池等の各種ナノ材料や 成膜プロセス開発のために最適化された高精度スプレーコーターです。 卓上に置ける超小型ながら、吐出再現性は1％以下という超高精度を実現！ 薬液は1実験あたり3ml～10mlという少量で済み、コストを大幅抑制できます。 【特長】 ■使い捨ての着脱式スプレーヘッドで、取付カンタン ■使用前後のメンテナンスがほぼ不要 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アピロス 本社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2） ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュア...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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燃料電池の耐久性向上などに貢献。水電解装置でも採用実績あり。
当社では、燃料電池の金属バイポーラプレート（セパレータ）用の表面処理に適した生産能力の高い『連続成膜装置』を設計・開発・製造し、受託加工コーティングサービスを提供しております。 出力や利用条件などに合わせたコーティングサービスや、 ニーズに合わせた最適な表面処理の開発も行っています。 ...
メーカー・取り扱い企業： HEF DURFERRIT JAPAN株式会社
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コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」
ターゲットは3種類同時に装着可能！多層膜を作製することが可能です。
cel」は、低真空領域において、マグネトロンカソードを用いた直流放電によりプラズマを発生させ、プラズマ中のイオンによってカソードに装着した金属ターゲットをスパッタし、試料表面に薄膜を作製する小型の成膜装置です。 ターゲットは3種類同時に装着可能であるため、真空中においてターゲットを選択でき、多層膜を作製することが可能です。 【特長】 ○オプションとして膜厚センサー、試料加熱ユニットなども...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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マザーテクノロジーで未来を拓く アールムテック サービスご紹介
【取扱い製品紹介】 ●温度信頼性試験装置 ハイタオ製サーマルショック装置は温度信頼性試験環境として －55℃→＋125℃まで10秒で昇温 ＋125℃→－55℃まで16秒で降温 急速温度変化環境を提供します。 ●サップコールド 弊社相模原サービスセンターにて全数出荷前検査を行い日本、台湾、中国、東南アジアに出荷しています。 フロン排出規制に対応した冷凍機のため、既存設備からの載替を行...
メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社
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高品質な真空をお届けします。
【特徴】 ○大型成膜装置、スペースチャンバー等に最適。 ○水に対する排気速度は最大。 ○メンテナンスインターバル 16000時間 ●詳しくはお問い合せ、またはカタログをダウンロードして下さい。...
メーカー・取り扱い企業： アルバック・クライオ株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…
連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/P...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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高品質な真空をお届けします。
【特徴】 ○大型成膜装置等の生産装置に最適。 ○バッチ式大型成膜装置に最適。 ○メンテナンスインターバル 16000時間 ●詳しくはお問い合せ、またはカタログをダウンロードして下さい。...
メーカー・取り扱い企業： アルバック・クライオ株式会社
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小型成膜装置！ターゲットは3種類同時に装着可能です。
xcelは、低真空領域において、マグネトロンカソードを用いた直流放電によりプラズマを発生させ、プラズマ中のイオンによってカソードに装着した金属ターゲットをスパッタし、試料表面に薄膜を作製する小型の成膜装置です。 ターゲットは3種類同時に装着可能であるため、真空中においてターゲットを選択でき、多層膜を作製することが可能です。 【特徴】 ○ターゲットは3種類同時に装着可能 ○真空中にターゲ...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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高品質な真空をお届けします。
【特徴】 ○中、大型生産装置に最適です。 ○バッチ式大型成膜装置に最適。 ○熱負荷に強いタイプ。 ●詳しくはお問い合せ、またはカタログをダウンロードして下さい。...
メーカー・取り扱い企業： アルバック・クライオ株式会社
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高品質な真空をお届けします。
【特徴】 ○大型成膜装置に最適。 ○水に対する排気速度は最大。 ○メンテナンスインターバル 16000時間 ●詳しくはお問い合せ、またはカタログをダウンロードして下さい。...
メーカー・取り扱い企業： アルバック・クライオ株式会社
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