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一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
株式会社栗田製作所
テルモセラ・ジャパン株式会社
株式会社奈良機械製作所
株式会社真空デバイス
ハウステンボス・技術センター株式会社
株式会社クリエイティブコーティングス
東京電子株式会社
アールエムテック株式会社
株式会社ウェーブフロント
株式会社C&Vテクニクス
サンユー電子株式会社
株式会社イオンテクノセンター
Shimada Appli合同会社
ピエゾパーツ株式会社
大村技研株式会社
カノマックスアナリティカル株式会社
株式会社リンテック
株式会社イトー
九州計測器株式会社
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DLC成膜装置「プラズマイオン注入成膜装置」
株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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HiPIMS用パルス電源 技術資料『HiPIMSで 最高クラスのスパッタ成膜を!』
東京電子株式会社
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各種成膜・アニール装置
大村技研株式会社
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成膜・熱処理装置ラインナップ
株式会社イオンテクノセンター
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成膜装置『ロールコーター<CVR-1000>』
株式会社C&Vテクニクス
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DLC(ダイヤモンド状炭素)成膜装置
東製株式会社
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プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000
株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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マイクロ波ダイヤモンド成膜装置『MDD-2016』
日本高周波株式会社
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【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン
メトロームジャパン株式会社
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コーティング装置『IK-1000』
株式会社インターフェイス
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【技術資料】拡張性ある常温DLC成膜
株式会社イトー
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低温高周波励起DLC成膜装置 CVC series
株式会社クリエイティブコーティングス
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成膜装置向け解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
株式会社ウェーブフロント 本社
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イオンビームスパッタリング装置
アールエムテック株式会社
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【技術資料】スパッタリング加工の基礎 ‐ スパッタ成膜と5Gについて
河村産業株式会社
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クラスター真空成膜・評価装置紹介
株式会社パスカル
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電源装置『HiPIMS用パルス電源』
東京電子株式会社
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研究開発用装置 成膜装置・グローブボックス
株式会社エイエルエステクノロジー
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卓上型コーティング装置 Qシリーズ(スパッタコーター/カーボンコーター)
株式会社アド・サイエンス
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低温ALD装置 CVA series
株式会社クリエイティブコーティングス
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ナノ粒子生成装置「レーザーアブレーションシステム」技術資料
株式会社奈良機械製作所
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【nanoPVD-S10A】RF/DCマグネトロンスパッタリング装置
テルモセラ・ジャパン株式会社
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大村技研株式会社 会社案内&ウエーハファウンドリー
大村技研株式会社
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株式会社C&Vテクニクス 会社概要/製品案内
株式会社C&Vテクニクス
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スプレー大気圧塗布装置 CMS series
株式会社クリエイティブコーティングス
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電源装置『スパッタリング用 直流電源』
東京電子株式会社
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【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
テルモセラ・ジャパン株式会社
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ナノ粒子生成装置「レーザーアブレーションシステム」カタログ
株式会社奈良機械製作所
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研究開発用スパッタリング装置
芝浦メカトロニクス株式会社
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IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置 CVI series
株式会社クリエイティブコーティングス
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ウエハー加工事業部
株式会社九州セミコンダクターKAW 山香工場
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株式会社栗田製作所 会社案内
株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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マグネトロンスパッタ装置 MSP-40T型の製品カタログ
株式会社真空デバイス
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株式会社C&Vテクニクス 会社案内
株式会社C&Vテクニクス
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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
テルモセラ・ジャパン株式会社
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アールエムテック サービス案内
アールエムテック株式会社
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DLCコーティング加工『PEKURIS COAT』
株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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粒子設計・表面改質装置「ハイブリダイゼーション」技術資料
株式会社奈良機械製作所
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コンパクトスパッタ装置 SC-701MkII ADVANCE
サンユー電子株式会社
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金属バイポーラプレート用『連続成膜装置』資料
HEF DURFERRIT JAPAN株式会社
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【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置
テルモセラ・ジャパン株式会社
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小型研究用 イオンビームスパッタリング装置
アールエムテック株式会社
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粒子設計・表面改質装置「ハイブリダイゼーション」 カタログ
株式会社奈良機械製作所
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成膜関連製品 TELEMARK 真空蒸着用コンポーネント
VISTA株式会社
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表面処理の特性予測ソリューション
株式会社ウェーブフロント 本社
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