CSTのCUT＆Tag関連製品

PRクロマチンプロファイリングがCUT&Tagでより迅速に！

Cleavage Under Targets & Tagmentation (CUT&Tag) は、より迅速かつ低コストな、ChIP-seqの代替となる解析方法です。ChIP-Seqと比べて必要な細胞数が少なく、CUT&RUNと比べて短時間でタンパク質-DNA相互作用を網羅的に解析できます。 ※詳細はPDFをダウンロードいただき、ご覧ください。 【プライバシーポリシーへの同意】 Cell Si...

メーカー・取り扱い企業： セルシグナリングテクノロジージャパン株式会社

カセ巻き取り機　MS3N-KS-300-φ150

紙、フィルムなどを定張力で巻き取るユニットです。 中心のハンドルノブ…

　　　　　約３０Ｋｇ ■ トルクモーター容量　　　　４０Ｗ（ボリウム調整で巻き取り張力が変わります） ■ 巻き取り張力　　　　　巻き径２００ｍｍ時　　　　　　　 ５０ｒｐｍタイプ　１１０Ｎ（短時間定格時）／２４Ｎ（連続定格時）　　 １００ｒｐｍタイプ　５８Ｎ（短時間定格時）／１１．６Ｎ（連続定格時）　 ３００ｒｐｍタイプ　１９Ｎ（短時間定格時）／３．８Ｎ（連続定格時）　　 ■ 巻き取...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ユタカ製作所

ラモンドスターラー(撹拌翼)　※レンタル有

ハニカム（蜂の巣）構造の撹拌翼内部で強力にせん断 超微細化かつ均…

◆ハニカム構造の撹拌翼 ラモンドスターラーは、ハニカム構造を持つ撹拌翼内部に複数の流体を高速回転により生じる遠心力で通過させることにより、流体にせん断力を作用させて、微細化かつ均一化撹拌を短時間で実現します。 ◆従来より優れた撹拌性能 従来型の撹拌機とは異なり、ハニカム構造の撹拌翼内部に高せん断領域を集約することで、高速回転で運転することが可能であるため、撹拌混合効果が格段に高いもの...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

乾式混合機『ボーレコンテナーミキサー』

すばやく・流れるように！固定混合羽根をもちいて短時間で均質な混合を実現…

ボーレ社考案のミキシングプレート（固定混合羽根）を設けることにより、 粉体同士が交差軌道を描きトランプカードをシャッフルするように混合される装置です。 これにより、高充填の仕込率においても短時間で十分な混合度を得ることができます｡ また混合容器が搬送容器を兼ねることで、移し替え作業の手間も無く 搬送容器の洗浄も不要です。 【特長】 ■幅広い仕込率で均質な混合ができる(20...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社広島メタル＆マシナリー ケムテック事業部

半導体プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

防湿用ドットスプレースプレーガン

水性防湿材料の塗布にバブル無の塗布成膜、乾燥時間の大幅短縮が期待できま…

特殊バルブ機構システムによって、コンフォーマルコーティング材料を液だれなく、短時間の高速応答で防湿絶縁材料を２ｍｍφ以下の小径霧化したり線引きスプレーすることが出来ます。特にVOC対応型の水性コンフォーマルコーティング材料の塗布で威力を発揮しました。水性コンフォーマルコーティン...

メーカー・取り扱い企業： Shimada Appli合同会社 コーティング開発部

凍結破砕機・細胞破砕装置「オートミル」

少量サンプルを衝撃により短時間で破砕します。液体窒素などを使用した凍結…

破砕装置でディスポーサブル容器内にてサンプルを破砕いたします。 ＤＮＡ/ＲＮＡ/タンパクの抽出を行うための破砕に最適。密閉容器内で破砕を行うためコンタミの心配はありません。また、衝撃は強力なため短時間での破砕が出来るほか液体窒素などを使用した凍結破砕も行え、サンプルの変性も抑えます。衝撃力、破砕時間は調整可能です。 新たに破砕中の温度表示（-196℃～50℃）ができるようになりました。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トッケン

【事例】『DSMC-Neutrals』真空排気シミュレーション

真空排気シミュレーションなど 低圧条件のガス流れの解析ができる 希…

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

TPEチューブ用熱溶着機　Biosealer TC

さらに使いやすく、スタイリッシュに進化！ TPEチューブ用の熱溶着機

製品の主な特長 ■ シンプルな操作 ■ 満液チューブでの溶着が可能 ■ タッチスクリーンの採用でスタート・ストップ、設定変更がワンタッチ ■ 短時間で溶着が可能 ■ 優れたサービス体制をご用意 ■ 多様なサーモプラスチックチューブに対応 ■ 幅広いサイズのチューブに対応 ■ フルバリデーション ※バリデーションガイド提出可能です...

メーカー・取り扱い企業： ザルトリウス・ステディム・ジャパン

細菌の殺菌・死滅用276nmUVLED深紫外線光源

276nmUVLED深紫外線光源（20,000μW／ｃｍ2）で、細菌を…

nmUVLEDによる、水・空気等の殺菌光源（従来の 　　低圧水銀ランプを置き換える光源です。）高環境負荷物質の水銀 　　を使用しない。細菌やウィルスを破壊する「260nm」に近いため、 　　短時間で殺菌可能 ２.物質の紫外線の吸収性や透過性を利用した、 　光学式検査・計測への応用 ■製品・技術の再生医療分野における展開の可能性 １．再生医療で使用する「洗浄液の殺菌」や、空気中に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ワイ・ドライブ

【半導体向け】解析シミュレーションソフト　※カタログ進呈

工数・コスト削減に！薄膜生成、スパッタリング、プラズマエッチングなどの…

に有用 ■CVDのような化学反応を含む成膜のシミュレーションが可能 ■非構造メッシュを採用しているため、実際の装置の形状そのままを 　計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られます ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり、 　品質の悪い計算格子が有っても、必ず収束解を得られます ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが初めての方や ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

Sony社製第4世代センサ搭載 CoaXPressカメラ

画質や性能に優れたSony社製第4世代センサを搭載したCXPカメラ。5…

被写体の全体像を撮像可能なだけでなく、弊社の500万画素カメラでは101fps、2000万画素カメラでは79.6fps、2400万画素カメラでは21.9fpsでの高速画像伝送が可能です。そのため、短時間で精密な撮像が求められる各種検査用途に好適です。 また、CoaXPressインターフェースは1本の同軸ケーブルを経由してデータ伝送・カメラ制御・電源供給が可能なため、複数台カメラを使用する用途で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シーアイエス

食品用液剤スプレー装置

植物油等の低粘度材料からチョコレートなどの高粘度材料に至るまでの液体を…

スは、一般的な2流体エアースプレーを利用されたプロセスとは違い、低圧型のマイクロエアレススプレー及び特殊パターンを形成する２流体マイクロスプレーを利用しましたコーティング技術を応用することにより、短時間成膜の実現と材料使用効率の削減及び材料の無駄、安定性の確保可能となる量産対応のシステムとなります。...

メーカー・取り扱い企業： Shimada Appli合同会社 コーティング開発部

SPGディスポーブル　乳化デバイス(ポンピングコネクター他)

少量(数ml)でSPG乳化が行えるデバイスです。粒子径調整可能で単分散…

ティック(静的)な乳化で、衝撃に弱い高分子材料や医薬品などの乳化にも適しています。また、ごく少量で乳化できるので、高価な薬剤や試薬を用いた乳化にご使用ください。 　SPG透過乳化法を用い、手動で短時間で乳化できる「ポンピングコネクター」。 　精度良い単分散エマルションを調製できるSPG直接乳化法を用いた「ダイレクトコネクター」や「フィルターキット」をラインナップしております。 ...

メーカー・取り扱い企業： エス・ピー・ジーテクノ株式会社

D16SEH　加熱型　卓上型　ステンレス鉢採用で急速加熱が可能

・ステンレス鉢採用により、熱応答性が高くなり、急速加熱により処理が可能…

式撹拌擂潰機の基本性能はそのままで、加熱機能を有する。 ・卓上型で、かつステンレス筐体を採用しているため、実験室やクリーンルームでの使用に最適。 ・ステンレス鉢を採用することにより、均一、かつ短時間で熱が伝わる機能を有する。 ・160℃までの加熱を行いながら、撹拌擂潰処理が可能。 ・透明なアクリルカバーを有し、安全性や擂潰物の飛散防止に配慮。 ・インバーターを標準装備し、杵の回転数を制...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社石川工場

【卓上型で研究開発現場に最適】D18SEB　加熱型　耐溶剤型

加熱しながら溶材を含む材料を撹拌擂潰（すりつぶし）ことができる石川式撹…

基本性能はそのままで、加熱機能を有する。 ・卓上型で、かつステンレス筐体を採用しているため、実験室やクリーンルームでの使用に最適。 ・磁器鉢でありながら、外釜として銅釜を有しており、均一、かつ短時間で熱が伝わる構造を有する。 ・120℃までの加熱を行いながら、撹拌擂潰処理が可能。 ・耐溶剤性を有する二重のポリエチレンナフタレートカバーで、結露を防止。安全性や擂潰物の飛散防止に配慮。 ・...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社石川工場

アルミ製 高剛性安全柵『フレックスガードフェンス』：青木精密工業

『FLEX GUARD FENCE』は工場ラインや装置設備のレイアウト…

、該当フレームのサブアッシー図を表示する機能や、3Dデータ上で該当パーツの取り付け位置を表示する支援サービスを用意しています。 ■組立品納入 部品単品ではなく面組にて出荷します。軽量なので短時間での組み立てが可能です。 お客様の作業は、アンカーボルトの固定が主です。 ■センサーなどの取付が出来、制御盤と連携も可能です フレーム溝を利用し、インターロックやセンサー等の各種アタッチ...

メーカー・取り扱い企業： 高津伝動精機株式会社

医療機器用コーティング『パリレンコーティング』※薄膜、軽量に好適

【パリレンとは？】生体適合性と生物学的安定性に優れさまざまな医療機器に…

■パリレンN：絶縁耐力に優れ、低い誘電性をもつ ■パリレンC：湿気や腐食性ガスに対するバリア性に優れる ■パリレンD：パリレンCと似た特性を持ち、より高い温度で使用可能 ■パリレンHT：短時間なら450℃まで使用可能な温度特性、隙間浸透力に優れる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 日本パリレン合同会社

【医療関連施設用】紫外線照射装置『ムーンビーム3』

細菌・ウイルスは3分、芽胞菌は10分で菌を減らす！遠隔操作で、作業者の…

『ムーンビーム3』は、紫外線C(UV-C)により、高頻度接触面を 短時間で狙い撃ちし、菌を減らす紫外線照射装置です。 3本のアームをフレキシブルに調整することで、紫外線C(UV-C)を 広範囲に効率的に照射。 遠隔操作で、作業者の安全を確保し、モーション...

メーカー・取り扱い企業： サイブ株式会社

水冷式光造形3Dプリンター『SLASH 2』

2機の水冷システムを搭載！冷却効率が速くて綺麗を実現！プロフェッショナ…

誰でも簡単にボタン1つで操作可能。ボタンにあるリングライトで視覚的に準備完了、スタート、残り時間、エラーなどの状態が一目でわかります。また、専用に設計された樹脂は光の感度が高くスムーズな硬化により短時間での造形を実現します。 【特長】 ■最高レベルのXY精度49.8μm ■レジンとLEDを個別に冷却 ■水冷は空冷より速い ■冷却時間を短縮 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マシンツール中央

【原材料をエマルジョン化】 ザイデルマン 『コンティカッター』

高品質なエマルジョンへと加工。日持ち延長、色味の安定性向上、高い結着性…

唯一のカッティングテクノロジーで、原料（製品）をご希望のサイズに粉砕し、 高品質なエマルジョンを作ります。 コンティカッターにより、ソーセージやスパイス、医療品など、 短時間で連続的にプレミアムな製品を作ることができます。 垂直にデザインされたカッティングプレートの特殊システムが、 プレミックスされた製品を吸引・乳化。 プレート同士は実際には触れ合わないので、原材料...

メーカー・取り扱い企業： ムルチバック・ジャパン株式会社 本社、つくば本社工場、北海道支店、東北支店、名古屋支店、大阪支店、広島支店、九州支店

Qdos CWT　新しい移送技術

Qdos CWT（ Conveying Wave Technology…

す。Qdos CWTは、高価な付属機器を不要としながら、化学計 量および注入用途で優れた精度をもたらします。 密封されたポンプヘッドは、作業者が化学薬品にさ らされることを最低限に抑え、短時間で安全に交換 できます。 • 最大0.7MPaで流量500ml/minまで • 高圧で長い耐用寿命 • 信頼性の高い、メンテナンス頻度の少ない ポンプ...

メーカー・取り扱い企業： Watson-Marlow（ワトソンマーロー）株式会社 東京本社、大阪支社

Embase（エンベース）

生物・医学・薬学文献調査のファーストチョイス！

・EMBASEとMEDLINEの重複除去済、圧倒的な情報量 ・EMTREE（統制語シソーラス）を用いた網羅的かつ信頼性の高い検索結果 ・医薬品名の作品に付与された副作用情報などにより検索結果を短時間で精査可能...

メーカー・取り扱い企業： エルゼビア・ジャパン株式会社 リサーチソリューション（企業・大学・政府機関）、ヘルスソリューション（医療機関）

プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト

ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算

に有用 ■CVDのような化学反応を含む成膜のシミュレーションが可能 ■非構造メッシュを採用しているため、実際の装置の形状そのままを 　計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られます ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり、 　品質の悪い計算格子が有っても、必ず収束解を得られます ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが初めての方や ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)な…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする …

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

CVD装置用　解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 2周波CCP

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

真空排気シミュレーションソフト『DSMC-Neutrals』

真空排気シミュレーションなど 低圧条件のガス流れの解析ができる 希…

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

粒子法3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

真空装置向け 希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』

低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「AC マグネトロン…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズ…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置

長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマ…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…

ering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 　 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 　 求めるもので、対向基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社